Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9138480 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für sehr hohe Reinigungs- und Ätzanwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System ist so konzipiert, dass es eine präzise Kontrolle über den Photoresist-Ätzprozess ermöglicht, um gewünschte Ergebnisse zu erzielen und gleichzeitig Abfall zu minimieren. TEL Clean Track ACT 12 verwendet eine Kombination aus Photoresist-Sprüh-, Ätz- und Backeigenschaften, um ultrafeine, hochpräzise geätzte Muster auf Materialien unterschiedlicher Größe und Dicke zu erzeugen. Photoresist ist ein lichtempfindliches Polymer, das im lithographischen Prozess verwendet wird, um winzige Merkmale auf Siliziumscheiben zu erzeugen. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 verwendet einen fortschrittlichen ultraschnellen UHF-Festkörperlaser, um Photoresist auf den Wafer zu sprühen. Dadurch wird sichergestellt, dass sich das Muster aufgrund aggressiver thermischer Bedingungen, die in anderen Systemen üblicherweise vorkommen, nicht verzerrt. Clean Track ACT 12 umfasst auch eine Hochgeschwindigkeits-Ätzeinheit, die durch präzise Laser- und elektrische Steuerungen verwaltet wird. Diese Maschine ist in der Lage, komplexe Muster mit einer Wiederholgenauigkeit von bis zu 0,5 μ m genau zu ätzen. Durch Ätzen wird das gewünschte Muster auf der Waferoberfläche erzeugt, das dann mit einem ultravioletten lichtempfindlichen Photolack beschichtet wird. Mit dem UV-Licht wird selektiv das gewünschte Muster auf dem Photolack geätzt. Schließlich wird der Wafer nach dem Ätzen einem Backzyklus unterworfen. Dieses Verfahren wird durchgeführt, um die Genauigkeit der Muster weiter zu verstärken und eventuell verbleibende Photolacke auf der Substratoberfläche zu entfernen. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 wurde entwickelt, um die thermischen Eigenschaften des Backprozesses so zu überwachen, dass das Ergebnis genau und wiederholbar ist. Abschließend ist TEL Clean Track ACT 12 ein fortschrittliches Photolackwerkzeug, das speziell für hochleistungsfähige, sehr präzise Ätz- und Reinigungsanwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verwendet eine Kombination aus Sprüh-, Ätz- und Backeigenschaften, um ultrafeine Eigenschaften auf Substraten unterschiedlicher Größe und Dicke zu erzeugen. Mit einer Wiederholgenauigkeit von bis zu 0,5 μ m ist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 in der Lage, bei minimalem Abfall extrem hochwertige Ergebnisse zu erzielen.