Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9154831 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die Anwendern ein effizientes und schnelles Verfahren zur Entwicklung von Photoresist auf Substraten bietet. Dieses System ermöglicht es Benutzern, hochauflösende Bilder auf der Waferoberfläche zu erstellen und so den Zeitaufwand zu reduzieren und die Qualität ihrer Produkte zu verbessern. Die Einheit arbeitet, indem sie dem Substrat durch eine Maske Licht aussetzt, die dann mit einem Vakuum stabilisiert wird. Dadurch können die Substrate negative oder positive Bilder entwickeln, die für die Herstellung verwendet werden können. Der Photolack wird auf der Oberfläche gehalten und das Vakuum stabilisiert die Schicht. Das wichtigste Merkmal dieser Maschine ist, dass kein manueller Kontakt zwischen den Schichten und dem Substrat erforderlich ist, da das Vakuum die Aufgabe der Stabilisierung der Geometrie und des Drucks des Photolacks erfüllt. Der Photolack wird nach vollständiger Belichtung von der Oberfläche entfernt. Es wird dann durch Spinnen des Substrats innerhalb einer mit einem flüssigen Photoresist gefüllten Kammer neu entwickelt. Der Photolack auf der Oberfläche wird durch den Spin des Substrats weiter ausgehärtet und die Flüssigkeit dann von der Oberfläche abgeführt. Dieses Verfahren verbessert die Leistungsfähigkeit von Photoresists, da es eine dünne und gleichmäßige Schicht bildet. TEL Clean Track ACT 12 bietet Anwendern die Genauigkeit und Präzision, hochauflösende, hochpräzise lichtempfindliche Komponenten zu produzieren. Das Werkzeug bietet zudem dank seines Hochvakuumniveaus eine überlegene Sauberkeit gegenüber Substraten. Die Anlage bietet außerdem eine außergewöhnliche Spurgenauigkeit beim Bewegen des Substrats zwischen Maske und Substrat, was eine präzise und genaue Belichtung ermöglicht. Insgesamt bietet TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Anwendern eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, lichtempfindliche Komponenten herzustellen. Das Modell arbeitet, indem es dem Substrat Licht aussetzt, die Schicht mit einem Vakuum stabilisiert, den Photolack entfernt und dann mittels Spin in einer mit einem flüssigen Photolack gefüllten Kammer neu entwickelt. Die Ausrüstung bietet ausgezeichnete Sauberkeit, Genauigkeit und Präzision und bietet Anwendern höchste Qualität in lichtempfindlichen Komponenten.