Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9190227 zu verkaufen
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ID: 9190227
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
(2) Coaters / (4) Developers system, 8"
In-line
Right to left
Loading configuration: 3 Foup type
Main controller: 2nd Controller
Main frame with system controller
CSB
PRB1
PRB2
IFB
Power box
T&H Controller
Chemical box
Thermo controller
(2) Mass flow controllers
Carrier station: 8" Foup type
(3) Cassettes / (25) Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Module):
(4) Dispense nozzles
With temperature controlled lines for etch unit
RRC Pump
PR Suck-back valve: (8) Air operation suck-back valves
Rinse system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Programmable side rinse
(4) PR Nozzles
(8) Bottles
Thinner supply:
CCSS Supply
Local canister tank function
Photo resist temperature control system
Drain: Direct drain
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4):
(2) H Nozzles for each unit
Stream nozzle for DI rinse
(2) Points for back side rinse on each unit
Developer temperature control system
I/F Wafer stage type: NIKON (S204)
Adhesion unit:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor in system
HMDS Supply: Local bottle
(8) Low temperature hot plates (LHP)
WEE Unit (Wafer edge exposure)
Type: DUV (UV254)
(7) Chill plates (CPL)
(4) Chilling hot plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
SHU: (2) Shuttles
Chemical cabinet 1:
Solvent
Developer
HMDS Chemical cabinet
Temperature & humidity controller: Shinwa series (ESA-8)
Temperature control unit(TCU): TEL
AC Power box:
AC200 / 220V
Full-load current: 300A
Power: AC 208V, 3 Phase, 300A (Maximum)
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist die neueste und fortschrittlichste Photoresist-Ausrüstung auf dem Markt. Es ist für ultra-niedrige Partikelleistung in der Reinraumumgebung konzipiert. Das System verwendet eine einzigartige Kombination von Technologien, einschließlich des proprietären Clean Track Auto Clean (CTAC) -Prozesses, die Partikelreinheit garantieren, und fortschrittliche Top-Down-Scan-Tools für eine einfache Wartung. Der Clean Track Auto Clean (CTAC) Prozess nutzt zwei aufeinanderfolgende Stufen, um die höchste partikelfreie Umgebung zu gewährleisten. Erstens werden zwei separate aktivierte Bürstenmodule verwendet, um Partikel aus beliebigen Oberflächenkonturen zu entfernen. Diese Borsten sind genau auf die Form und Größe des Teils oder Gerätes zugeschnitten, so dass alle Verunreinigungen wirksam entfernt werden. Zweitens wird eine hohe Luftströmungseinheit verwendet, um die gelösten Partikel von der Oberfläche zu extrahieren. Der hohe Luftstrom bringt auch eine antistatische Ladung auf die Oberfläche auf, wodurch die partikelfreie Umgebung weiter verbessert wird. Die Maschine verwendet auch proprietäre Scan-Technologie, um verbleibende Partikel zu erkennen. Das Scanwerkzeug verwendet ein 16-Kanal-Sensor-Array, um Partikel bis zu 1 Mikron zu detektieren. Die Sensoren messen und vergleichen Partikeleigenschaften einschließlich Größe, Form und Dichte und ermöglichen eine genaue Identifizierung der Partikelzahlen. Durch diesen Scanvorgang ist das Tool in der Lage, Partikelwerte unter dem Industriestandard zu erkennen und zu entfernen. TEL Clean Track ACT 12 Asset verwendet auch fortschrittliche Temperatur-, Feuchtigkeits- und Ozon-Überwachungstechniken, um sicherzustellen, dass die Reinraumumumgebung konsequent aufrechterhalten wird. Temperatur- und Feuchtigkeitssensoren überwachen die Umgebung, um das Modell nach Bedarf einzustellen. Zusätzlich werden Ozonsensoren verwendet, um das Vorhandensein von Ozon erzeugenden Partikeln zu erkennen und die Ozonproduktion der Geräte entsprechend anzupassen. Das System bietet dem Benutzer eine vollständige Kontrolle und ermöglicht eine genaue Überwachung des Reinigungsprozesses. Darüber hinaus bieten sowohl die Staub- als auch die antistatischen Systeme fortschrittliche statistische Analysetools, die es Anwendern ermöglichen, die Reinigungsschwellen zu überwachen und eine optimale partikelfreie Leistung zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eine hochentwickelte Photoresist-Einheit, die es Anwendern ermöglicht, die höchste Sauberkeit in der Reinraumumgebung zu erreichen. Die Maschine verwendet eine Kombination fortschrittlicher Technologien, um eine konstante partikelfreie Leistung zu ermöglichen und gleichzeitig die vollständige Kontrolle über den Reinigungsprozess zu gewährleisten.
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