Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9197300 zu verkaufen
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ID: 9197300
Weinlese: 2006
Single block system, 12"
P/N: Cassette block(CSB)
Model no: ACT12-300
TTC Series
Front opening unified pod
Non copper
Installed components:
(2) YASKAWA Servopack P/N: CACR-02-TE2K
(2) YASKAWA Servopack P/N: SGDA-01AP
(2) PANASONIC Servo P/N: DV83050HA503
PANASONIC PLC P/N: MSD261Y22
NSK Servo driver P/N: ESA-J1003AF9-20
ASYST P/N: Advantag gateway
TEL P/N: TIF-40S1, Model 877
CE Marked
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ein bahnbrechendes Photoresist-System für führende Lithographieverfahren. Der Clean Track ACT ist eine umfassende integrierte Einheit, die kritische Reinigungsprozesse und Lösungen für höchste lithographische Anforderungen bietet. TEL Clean Track ACT 12 Maschine nutzt deterministischen Transport, der eine saubere Umgebung für die aktive Schicht eines Photolacks schafft. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack gleichmäßig auf dem Wafer abgeschieden wird, was für den Lithographieprozess kritisch ist. Seine fortschrittliche Luftschleuse-Technologie bietet einen wichtigen Schutz vor Kontaminationen und Nachbearbeitungseffekten. Der integrierte Ablauf mehrerer Reinigungs- und Weichbackprozesse sorgt für optimale Bedingungen für die Lithographie. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 verfügt zudem über einen Cap-Wafer Transfer, der Partikel minimiert, Kontaktverunreinigungen reduziert und die Reinigung von Wafern eliminiert. Die High-End-Automatisierung dieses Modells ist auf effiziente und zuverlässige Leistung ausgelegt, die den unterbrechungsfreien Fluss von Prozesslösungen für einen verbesserten Durchsatz gewährleistet. Clean Track ACT 12 bietet eine Multifunktionsplattform für erweiterte Vorverarbeitung. Es wurde entwickelt, um mehrere lithographische Prozesse wie EUV- und ArF-Lithographie zu unterstützen. Die integrierte Plattform bietet sowohl Pre-Bake-Funktionen als auch Reinigung für eine Reihe von Wafergrößen und Konfigurationen. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine vielseitige Plattform für Lithographie. Es bietet ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über Substrate, um präzise zu gewährleisten
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