Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216089 zu verkaufen
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ID: 9216089
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Coater / (2) Developer system, 12"
With system controller
Left to right
I/F Wafer stage type: NIKON Type (SFl3)
Carrier station:
Foup cassette
Uni-cassette
(3) Cassettes
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tanks
Degassing system
Programmable side rinse:
PR Nozzles (1-6): (36) Bottles
Thinner supply (Bottle / Nozzle): CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H-Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Developer system:
(2) 3 Liters buffer tanks
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
Adhesion unit:
Sealing closed chamber
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Precision chilling hot plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
WEE Unit (Wafer edge exposure)
UV Sensor: I-line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA ESA-8 Series Temperature / Humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es besteht aus einem Photoresist-Verarbeitungssystem und einer in einer integrierten Einheit kombinierten Schrittbahn, um eine partikelarme Umgebung bereitzustellen. Die Photolackeinheit ist der erste Schritt bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und dient der Erzeugung kleiner Muster auf dem Substrat. Der Photolack wird je nach erzeugtem Muster entweder aus einer Photomaske oder einem Elektronenstrahl mit Licht belichtet. Anschließend wird der belichtete Photolack entwickelt und das resultierende Muster auf das Substrat übertragen. TEL Clean Track ACT 12 ist so effizient, sauber und partikelarm wie möglich. Dies wird durch seine fortschrittliche Schrittbahnmaschine erreicht, die in Verbindung mit dem Photoresist-Bearbeitungswerkzeug arbeitet. Das Stepper-Track-Asset soll die Anzahl der Partikel reduzieren, die durch die Photomaske während des Belichtungsprozesses erzeugt werden. Dies geschieht, indem die Partikel erfasst und während der Verarbeitung zwischen der Spur und der Photomaske isoliert werden. Anschließend werden die Partikel sicher entfernt und entsorgt. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 verfügt auch über ein fortschrittliches Temperaturverfolgungsmodell, das die Temperaturregelung direkt durchsetzen kann, indem Elektronenstrahltemperaturen mit Prozesszeiten und Dosis korreliert werden. Dies reduziert die Fehlerchancen durch Temperaturänderungen während der Verarbeitung. Clean Track ACT 12 ist ein unschätzbares Werkzeug auf dem schnell wachsenden Gebiet der Halbleiterherstellung. Die Kombination aus fortschrittlicher Photoresist-Verarbeitung, Stepper-Track-Ausrüstung und Temperaturverfolgbarkeit liefert präzise Ergebnisse in einer partikelarmen Umgebung. Es wird immer beliebter bei Geräteherstellern aufgrund seiner Effizienz und Effektivität.
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