Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216090 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage, die für den Einsatz in der Halbleitermikrofabrikation entwickelt wurde. Dieses System nutzt Flüssigkeitsauffüllung, Tauch- und berührungslose Scantechnologie, um präzise resist- und teilchenfreie Ergebnisse für fortschrittliche Halbleiterprozesse zu liefern. Das Gerät besteht aus einer Scanner-Baugruppe, mehreren Spendern, einer Umlaufscheibe und einem Produktivitäts-Softwarepaket. Die Scanner-Baugruppe bietet eine präzise Kontrolle der Resistdosis und Gleichmäßigkeit bei hochauflösendem berührungslosen Scannen. Spender bieten die für die Maschine benötigten Reinigungslösungen und Resist. Die Rezirkulationswäsche ermöglicht eine kontinuierliche Flüssigkeitsauffüllung, die Entfernung von Partikeln und anderen Stoffen, die das Werkzeug verunreinigen können, was zu Resist-Rückständen führt. Schließlich bietet die Produktivitätssoftware Echtzeit-Asset-Performance-Feedback und Performance-Verifizierung zur Modelloptimierung. Die Ausrüstung ist unter Berücksichtigung einer wartungsarmen Umgebung konzipiert; die Nähe der Spender, Rezirkulationswascher und Scanner ermöglichen eine minimale Wartung und optimale Leistung. Dieses System ist auch in der Lage, großflächige Verarbeitung von bis zu 456 Millimetern bei einer Auflösung von 20 Mikrometern - wesentlich für fortgeschrittene Halbleiterprozessschritte. Darüber hinaus wird die Ausfallzeit des Geräts aufgrund des schnellen Wiederherstellungsprozesses nach überdosierter Lösung minimiert, wodurch für jedes Los ein konsistentes Ergebnis erzielt wird. Die Photolackmaschine ACT 12 wurde entwickelt, um mit fortschrittlicher Halbleiterverarbeitung Schritt zu halten. Unter Verwendung seiner kontaktlosen Scanfähigkeit, Flüssigkeitsauffüllung und LED-Nachfülltechnologien ist dieses Tool in der Lage, partikelfreie Ergebnisse mit hochpräziser Resistdosierbarkeit zu liefern. Diese Anlage wurde entwickelt, um die beste Substrat/Resist-Leistung für Mikrofabrikationsprozesse der nächsten Generation zu bieten.