Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9227624 zu verkaufen
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![TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Foto Verwendet TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Zum Verkauf](https://cdn.caeonline.com/images/tel-tokyo-electron_clean-track-act-12_1001172.jpg)
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Verkauft
ID: 9227624
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 12"
Left to right
(3) Main controllers
In-line
CSB
IFB
PRB 1
Power box
Chemical box 1
Fire system box 1 and 2
T&H Controller 1
Thermo controller 1
Loading configuration:
(3) FOUP Loaders
Uni-cassette
With system controller
Carrier station:
Type: FOUP
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coaler unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature controlled lines for etch unit
RDS Pump (Millipore)
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle (1, 2, 3, 4, 5,6)
(6) Bottles (1 Bottle / 1 Nozzle)
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Drain: Direct drain
Developer unit:
H Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
(2) Points for back side rinse
Developer system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON SF130
Adhesion unit
Chamber (Build-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(2) Precision chilling hot plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer edge exposure (WEE)
UV Sensor: I-Line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA Series (ESA-8) Temperature and humidity controller
Temperature control unit (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ein Photoresist-Gerät, das für die Photolithographie verwendet wird, indem ein dünnes Filmmuster auf der Oberfläche eines Wafers erzeugt wird. Das System verwendet eine eigene saubere Spur, die die Verschmutzung der Waferoberfläche während des Belichtungsprozesses verhindert und eine verbesserte Prozessfähigkeit im Vergleich zu anderen konventionellen Systemen bietet. Das Gerät wurde entwickelt, um Muster höherer Auflösung und bessere Wiederholbarkeit zu erreichen. Es verfügt über eine Vakuummaschine sowie einen Backprozess, der aktiv arbeitet, um den Fotolack zu trocknen und eine bessere Mustergenauigkeit zu erzeugen. Das Werkzeug ist mit einer speziellen Reinigungsbahn für die Wafer-Vorreinigung und einer Hauptspur für die Belichtung ausgestattet. Die Vorreinigungsbahn enthält einen Oxidationsprozess, der zur Reinigung der Waferoberfläche beiträgt und die Filmqualität für die Photomachination verbessert. Die Vorreinigung beseitigt auch Verunreinigungen, die durch luftgetragene Staubpartikel oder andere Oberflächenverunreinigungen verursacht werden. Die Hauptspur ist so konzipiert, dass sie eine stabile Niederspannungsversorgung bietet, die eine hohe Leistungsstabilität für den Belichtungsprozess gewährleistet. In der Hauptspur ist eine hochpräzise Optik integriert, die für Genauigkeit und Stabilität im Belichtungsprozess sorgt. Das Modell verfügt über verschiedene programmierte Betriebszyklen, die an die Anforderungen des Benutzers angepasst werden können. Es hat auch Sicherheitsfunktionen eingebaut, die helfen, Unfälle und Schäden an der Ausrüstung zu verhindern. Es verfügt über einen großen benutzerfreundlichen Bildschirm, der dem Benutzer den einfachen Zugriff auf alle Funktionen der Ausrüstung ermöglicht. Das System verfügt außerdem über eine algorithmengesteuerte Optimierungseinheit, die es dem Anwender ermöglicht, die Belichtungszeit und die Prozessbedingungen zu optimieren, um die gewünschte Mustergenauigkeit und Prozessausbeute zu erreichen. Sie gewährleistet auch die Gleichmäßigkeit der bei Belichtung entstehenden dünnen Filme und bietet eine bessere Prozessfähigkeit. Die Maschine kann auch mit anderen Systemen wie Asetching, Deposition und Stripping-Ausrüstung verbunden werden, um eine verbesserte Verarbeitungsgeschwindigkeit und bessere Musterqualität zu bieten. Insgesamt ist TEL Clean Track ACT 12 ein leistungsstarkes Photolackwerkzeug, das hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit erreichen kann. Es verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die auf die Erzielung präziser Musterergebnisse zugeschnitten sind und eine überlegene Ausbeute des fertigen Wafers gewährleisten. Die Anlage wurde entwickelt, um zuverlässige und effiziente Leistung zu bieten, die es Anwendern ermöglicht, qualitativ hochwertige Produkte zu produzieren und Abfälle zu reduzieren.
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