Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9239542 zu verkaufen

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ID: 9239542
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
SOG System, 12" Process block: Single block system Hard Disk Drive (HDD) CSB: Equipment controller Stage / Indexer: (4) Foup indexers CRA / Cassette block robotics arm PRB: SOD Unit 2-1: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup SOD Unit 2-2: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup PRA / Process Block Robotics Arm (6) LHP / Low Temperature Hot Plate Stations (4) CPL / Chilling Plate Process Stations TRS / TCP: Transition Stage Unit CWH / Cup Washer Holder Unit External chemical supply system: Solvent supply system for (2) SOD units Solvent chemical type Canister tank to auto supply system with (2) PCS pump tanks Tank type: (2) Pump tanks (3 Liters/Tank, Teflon) to cover (2) coat units TEL OEM TCU / Temperature control unit: SMC Circulator pumps and thermo controller Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine fortschrittliche Photoresist-Werkzeugausrüstung, die entwickelt wurde, um hohe Leistungsstandards für Produktions- und Engineering-Prozessanwendungen in der modernen Halbleiterherstellung zu erreichen. Das System verfügt über eine einzigartige Kombination von Hardware- und Softwarekomponenten, die alle zusammenarbeiten, um eine hocheffiziente und präzise Photolackverarbeitungslösung zu liefern. Im Kern befindet sich eine Mehrkammer-Einheit, die eine Reihe hochmoderner Komponenten umfasst, einschließlich einer Hochleistungs-Softwareplattform, die für einen benutzerfreundlichen Betrieb konzipiert ist. Diese Plattform sorgt für zuverlässige Ergebnisse, intuitive Bedienelemente und eine schnelle Verarbeitung, die zur Maximierung der Effizienz beiträgt. Darüber hinaus bietet die Maschine selbst eine Reihe von Funktionen und Funktionen, die eine maximale Vielseitigkeit und Anpassbarkeit ermöglichen, um den Anforderungen einer Vielzahl von Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das Herzstück des Werkzeugs liegt in seiner Mehrkammerausführung, wobei jede Kammer einen unabhängigen Prozess unterstützt, der vollständig von den anderen isoliert ist. Auf diese Weise können Benutzer die Prozessparameter und die Steuerungsebene der Photolackverarbeitung für jede Operation anpassen. Darüber hinaus verwenden die Mehrmedienbeschleunigerkammern eine ultrapräzise Steuerung der Einspritzpumpe, um eine konsistente, genaue und präzise Dispersion des Photolackmaterials zu gewährleisten. Das Asset basiert auf einer Plattform, die verschiedene Benutzerfunktionen wie Prozesseinblicke auf Modellebene intelligent integriert, um eine erhöhte Genauigkeit und Geschwindigkeit in der Photoresist-Bearbeitungszeit zu ermöglichen. Dies gewährleistet einen sehr zuverlässigen Prozess für alle Operationen. Darüber hinaus ist die Anlage darauf ausgelegt, den Prozessdurchsatz und die Produktivität durch einfach zu bedienende Datenerfassungsfunktionen und ein vollständig integriertes statistisches Analysepaket zu maximieren. Schließlich wird TEL Clean Track ACT 12 um ein robustes Sicherheitssystem gebaut, das das Risiko eines fehlerhaften Materialeintrags erheblich verringern und Verluste durch Kontamination minimieren soll. Dies sichert die Prozessintegrität und Produktqualität der gesamten Photolackverarbeitung während der gesamten Einheit. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eine hochleistungsfähige Fotoresist-Werkzeugmaschine, die Anwendern fortschrittliche Hardware- und Softwarekomponenten bietet, die alle für ein leistungsstarkes, zuverlässiges und zuverlässiges Fotoresist-Bearbeitungswerkzeug entwickelt wurden. Das Asset basiert auf einem anpassbaren Mehrkammer-Modell mit benutzerfreundlichen Kontrollen, einem schnellen Verarbeitungsdurchsatz, intuitiven Datenerfassungs- und statistischen Analysetools sowie einer robusten Sicherheitsausrüstung, die das Risiko von Kontaminationen reduziert. Alle diese Attribute arbeiten zusammen, um maximale Genauigkeit und Effizienz in allen photoresistbezogenen Prozessen zu gewährleisten.
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