Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9239542 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9239542
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
SOG System, 12"
Process block: Single block system
Hard Disk Drive (HDD)
CSB:
Equipment controller
Stage / Indexer: (4) Foup indexers
CRA / Cassette block robotics arm
PRB:
SOD Unit 2-1:
(2) Resist dispense nozzles
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Coat cup temperature synchronized control system
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Cup type: PP for upper cup & inner cup
SOD Unit 2-2:
(2) Resist dispense nozzles
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Coat cup temperature synchronized control system
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Cup type: PP for upper cup & inner cup
PRA / Process Block Robotics Arm
(6) LHP / Low Temperature Hot Plate Stations
(4) CPL / Chilling Plate Process Stations
TRS / TCP: Transition Stage Unit
CWH / Cup Washer Holder Unit
External chemical supply system:
Solvent supply system for (2) SOD units
Solvent chemical type
Canister tank to auto supply system with (2) PCS pump tanks
Tank type: (2) Pump tanks (3 Liters/Tank, Teflon) to cover (2) coat units
TEL OEM TCU / Temperature control unit:
SMC Circulator pumps and thermo controller
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine fortschrittliche Photoresist-Werkzeugausrüstung, die entwickelt wurde, um hohe Leistungsstandards für Produktions- und Engineering-Prozessanwendungen in der modernen Halbleiterherstellung zu erreichen. Das System verfügt über eine einzigartige Kombination von Hardware- und Softwarekomponenten, die alle zusammenarbeiten, um eine hocheffiziente und präzise Photolackverarbeitungslösung zu liefern. Im Kern befindet sich eine Mehrkammer-Einheit, die eine Reihe hochmoderner Komponenten umfasst, einschließlich einer Hochleistungs-Softwareplattform, die für einen benutzerfreundlichen Betrieb konzipiert ist. Diese Plattform sorgt für zuverlässige Ergebnisse, intuitive Bedienelemente und eine schnelle Verarbeitung, die zur Maximierung der Effizienz beiträgt. Darüber hinaus bietet die Maschine selbst eine Reihe von Funktionen und Funktionen, die eine maximale Vielseitigkeit und Anpassbarkeit ermöglichen, um den Anforderungen einer Vielzahl von Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das Herzstück des Werkzeugs liegt in seiner Mehrkammerausführung, wobei jede Kammer einen unabhängigen Prozess unterstützt, der vollständig von den anderen isoliert ist. Auf diese Weise können Benutzer die Prozessparameter und die Steuerungsebene der Photolackverarbeitung für jede Operation anpassen. Darüber hinaus verwenden die Mehrmedienbeschleunigerkammern eine ultrapräzise Steuerung der Einspritzpumpe, um eine konsistente, genaue und präzise Dispersion des Photolackmaterials zu gewährleisten. Das Asset basiert auf einer Plattform, die verschiedene Benutzerfunktionen wie Prozesseinblicke auf Modellebene intelligent integriert, um eine erhöhte Genauigkeit und Geschwindigkeit in der Photoresist-Bearbeitungszeit zu ermöglichen. Dies gewährleistet einen sehr zuverlässigen Prozess für alle Operationen. Darüber hinaus ist die Anlage darauf ausgelegt, den Prozessdurchsatz und die Produktivität durch einfach zu bedienende Datenerfassungsfunktionen und ein vollständig integriertes statistisches Analysepaket zu maximieren. Schließlich wird TEL Clean Track ACT 12 um ein robustes Sicherheitssystem gebaut, das das Risiko eines fehlerhaften Materialeintrags erheblich verringern und Verluste durch Kontamination minimieren soll. Dies sichert die Prozessintegrität und Produktqualität der gesamten Photolackverarbeitung während der gesamten Einheit. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eine hochleistungsfähige Fotoresist-Werkzeugmaschine, die Anwendern fortschrittliche Hardware- und Softwarekomponenten bietet, die alle für ein leistungsstarkes, zuverlässiges und zuverlässiges Fotoresist-Bearbeitungswerkzeug entwickelt wurden. Das Asset basiert auf einem anpassbaren Mehrkammer-Modell mit benutzerfreundlichen Kontrollen, einem schnellen Verarbeitungsdurchsatz, intuitiven Datenerfassungs- und statistischen Analysetools sowie einer robusten Sicherheitsausrüstung, die das Risiko von Kontaminationen reduziert. Alle diese Attribute arbeiten zusammen, um maximale Genauigkeit und Effizienz in allen photoresistbezogenen Prozessen zu gewährleisten.
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