Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9242356 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9242356
Wafergröße: 8"
(2) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block system
Wafer flow: Left to right
Block 1:
C/S Block, 12"
Stage / Indexer:
Non-SMIF / Open uni-cassette
CSB / Cassette stage block
Block 2:
P/S Block, 12"
(2) Coat units: 2-1 & 2-2
E-Box
Cup base, 12"
(2) PANASONIC Motor drives
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) HCP
(4) LHP
TCP
(2) ADH / Adhesion
SHU
Block 3:
P/S Block, 12"
(4) Developer units: 3-1, 3-2, 3-3 & 3-4
E-Box
Cup base, 12"
Out cup, 12"
(4) YASKAWA Motor drives
(4) H Nozzles 1 & 2
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) PHP
(4) LHP
(3) HCP
Block 4:
I/F Block, 12"
WEE Unit
CPL
IF Arm
Chemical supply cabinets: (2) Coater & (4) Developer
Power transformer AC cabinet
Temperature & humidity controller: SHINWA T&H ESA-8
TCU: (2) ACT 12 Frames
Missing parts:
Block 2 (P/S Block):
(2) Spin I/O boards
(2) Spin motors
(2) Out cups
(2) PR Nozzle assy
Air sol V/V
Oven:
(2) E5ZE
Z Motor
Lower drain sheet metal & hardware
Block 3 (P/S Block):
Developer:
(4) Spin I/O boards
(4) Spin motors
Oven:
PHP Flow meter assy box
E5ZE
REX Controller.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine hochwertige Photolackausrüstung, die zuverlässige Lithographie mit automatisierten Prozesssystemen kombiniert. Das System wurde entwickelt, um die Hochvolumenlithographie bei der Herstellung von Siliziumchips zu erleichtern. Das Gerät enthält eine Ionenstrahlmaschine, ein Tauchkühlwerkzeug, eine Belichtungskammer und ein in situ optisches Gerät. Das Ionenstrahlmodell ist für das genaue Ätzen des Photolacks verantwortlich. Die Tauchkühlanlage hilft, thermische Belastungen und Verschmutzungen im System zu reduzieren. Die Belichtungskammer emittiert eine aktive Strahlung an das zu entwickelnde Photolackmaterial. Diese Strahlung kann aus einer Vielzahl von Wellenlängen ausgewählt werden. Die in situ optische Einheit ist für die Steuerung der Lichtintensität zuständig. Diese Funktion ist wichtig, da sie es der Fotolackmaschine ermöglicht, Chipdesigns genau zu reproduzieren. Die Aktivierung der Funktionen von TEL Clean Track ACT 12 erfolgt stufenweise. Zunächst werden die erforderlichen optischen Einstellungen eingegeben und dann der Photolack der Strahlung ausgesetzt. Nach Beendigung des Belichtungsprozesses wird das Ionenstrahlwerkzeug betätigt; dies hilft, das Photolackmaterial zu ätzen. Schließlich wird die Tauchkühlanlage in die Lage versetzt, thermische Belastungen und Verschmutzungen zu reduzieren. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ebenfalls mit einem Alarm- und/oder Überwachungsmodell ausgestattet. Dies hilft, Fehler im Prozess zu erkennen, und es kann auch Wartungsdaten zur Verfügung stellen. Diese Funktion stellt sicher, dass die Photolackausrüstung effizient läuft und mögliche Schäden am System verhindert. Clean Track ACT 12 ist eine hocheffiziente und zuverlässige Einheit für die Lithographie. Es ist in der Lage, hochpräzise Musterkonstruktionen zu erstellen und kann leicht mit automatisierten Prozesssystemen kombiniert werden. Dies ist besonders vorteilhaft bei der Herstellung von Siliziumchips. Die Kombination aus Ionenstrahlmaschine, Tauchkühlwerkzeug, Belichtungskammer und in situ optischem Gut sorgt dafür, dass der Photolack genau geätzt und den gewünschten Wellenlängen ausgesetzt wird. Das Alarm- und Überwachungsmodell erhöht die Effizienz und Zuverlässigkeit der Geräte weiter.
Es liegen noch keine Bewertungen vor