Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9244064 zu verkaufen

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ID: 9244064
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Resist coater / Developer system, 12" Single block Track 1: Coater cup (2) Developer cups ADH Track 2: Resist reduction: RRC Developer: H Nozzle Resist pump: RDS 10 ml Oven configuration: PEB: (2) PHP COT: (2) PHP Post bake: (3) CHP Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Entwicklungsausrüstung, die im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird. Das System soll die Produktion hochpräziser und optimierter elektronischer Komponenten unterstützen. Es ist eine anspruchsvolle technologische Lösung, die die Erstellung von Mustern mit wiederholbaren Ergebnissen und verbesserter Einheitlichkeit ermöglicht. Der ACT 12 funktioniert durch Reaktion auf auf ein lichtempfindliches Resistmaterial eingestrahltes Licht. Dieses Verfahren ist als Photolithographie bekannt und wird verwendet, um detaillierte Muster auf dem Resistmaterial zu erstellen. Einmal an Ort und Stelle wird das Resistmaterial entwickelt, das dann das Muster der Vorrichtung bildet. Das Gerät nutzt eine einzigartige Kombination von Belichtungslaser- und Partikelhebetechnologien, um hervorragende Ergebnisse zu erzielen. Die ACT 12 verfügt über eine Clustereinheit bestehend aus vier Einzelsystemen, die drei verschiedene Lichtquellenoptionen verwenden: einen Excimerlaser (266nm), Kryptonfluorid (248nm) und Argonfluorid (193nm). Es verfügt auch über eine eigene Steuerungsmaschine, mit einer CPU für die Datenverwaltung, um sicherzustellen, dass jede Lichtquelle für eine optimale Leistung verwendet werden kann. Der Belichtungslaser des Werkzeugs ermöglicht eine überlegene Druckauflösung mit geometrischer Genauigkeit und Gleichmäßigkeit. Die Partikelhebefunktion trägt dazu bei, dass die verzogenen Ecken des Resistmaterials vor der Entwicklung rasiert werden. Dies fördert eine bessere Eckenauflösung und Ausrichtung der engen Muster. Der ACT 12 ist das Standardmodell der Clean Track Serie und in der Lage, Entwicklungsprozesse mit 90 Sekunden Zykluszeit durchzuführen. Es bietet auch einen höheren Durchsatz mit Verarbeitungsgeschwindigkeiten von bis zu 5,7 cm/Sekunde. Die Anlage ist mit einer ultra-sauberen Edelstahl-Vakuumkammer für die schmutzfreie Produktion konstruiert und ist mit einer abnehmbaren, verstellbaren Bühne für eine schnelle und einfache Installation von Substraten ausgestattet. Zusammenfassend ist TEL Clean Track ACT 12 ein hochmodernes Photoresist-Entwicklungsmodell, das auf Genauigkeit und Zuverlässigkeit ausgelegt ist. Es bietet eine überlegene Druckauflösung mit schnellen Zykluszeiten und hohen Durchsätzen. Die Ausrüstung ist in der Lage, hochpräzise und einheitliche Muster mit wiederholbaren Ergebnissen zu produzieren und ist mit einer ultra-sauberen Edelstahl-Vakuumkammer zur Unterstützung der schmutzfreien Produktion aufgebaut.
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