Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9245699 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photolackausrüstung, die speziell für den Markt für integrierte Schaltungen (IC) entwickelt wurde. Das System kombiniert Maskenausrichtungs- und Teilbeschichtungstechnologien in einer einzigen Plattform, um eine kostengünstige und effiziente Lösung für die Photolithographie-Prozesse in der IC-Fertigung zu bieten. Die Masken-Aligner-Technologie wird verwendet, um die Photomaske exakt auf den Wafer auszurichten und eine hochgenaue Belichtung des Photolacks mit dem Halbleitermaterial zu gewährleisten. Die Teilbeschichtungstechnologie ermöglicht die selektive Beschichtung von Photolack und ermöglicht eine effiziente Strukturierung von IC-Merkmalen mit sehr kleinen seitlichen Abmessungen. TEL Clean Track ACT 12 verfügt über eine anspruchsvolle Substrathandhabungseinheit, die optimale Leistung und Zuverlässigkeit bietet. Die Maschine unterstützt Wafer bis 300 mm Durchmesser und kann Wafer mit einer Geschwindigkeit von bis zu 600 Wafern pro Stunde belichten. Das Tool verfügt auch über eine fortschrittliche temperaturgesteuerte Belichtungsstufe, die präzise und konsistente Belichtungszeiten unabhängig von Umgebungsbeleuchtung oder Temperaturschwankungen gewährleistet. Neben seiner Expositionsfähigkeit verfügt TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 auch über innovative chemische Verfahren zur Verringerung der Partikelverschmutzung und zur Verbesserung der Chipausbeute. Die Anlage nutzt eine patentierte Trockenätztechnologie, die Photolack in die einzigartigen Muster einätzt, die für den IC-Herstellungsprozess erforderlich sind. Diese Trockenätztechnologie reduziert nachweislich den Partikelaufbau, was zu höheren Chip-Ausbeuten und weniger abgelehnten Wafern führt. Clean Track ACT 12 verfügt auch über ein proprietäres Automated Particle Counting Model (APCS). Diese Ausrüstung ermöglicht es dem Bediener, die Partikelzahl innerhalb der Maschine während des Betriebs zu überwachen, wodurch Anpassungen vorgenommen werden können, um die Partikelverschmutzung zu reduzieren und die Chipausbeuten zu verbessern. Insgesamt bietet TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die IC-Fertigung. Das System kombiniert fortschrittliche Maskenausrichtungs- und Teilbeschichtungstechnologien, um eine hochgenaue Belichtung von Photoresist zu gewährleisten und gleichzeitig innovative chemische Prozesse zur Verringerung der Partikelverschmutzung und zur Verbesserung der Chipausbeute zu verwenden. Die ausgeklügelte Substrathandhabungseinheit und die Automated Particle Counting Machine tragen weiter dazu bei, Zuverlässigkeit und Ergebnisqualität zu gewährleisten.