Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9252495 zu verkaufen
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ID: 9252495
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Coater / (2) Developer system, 12"
FOUP
Modules:
(4) COT
(9) LHP
(6) HHP
(4) PHP
2004 vintage.
Die' TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 'ist eine Photoresist-Anlage zur Entwicklung von Halbleiterbauelementen. Das System ermöglicht die präzise Strukturierung von Schaltkreisen wie integrierten Schaltkreisen durch den Einsatz fortgeschrittener Belichtungs- und Nachbelichtungsprozesse. TEL Clean Track ACT 12 ist eine automatisierte Einheit, die nach der Photolithographie-Belichtungsmethode arbeitet. Diese Methode beinhaltet die Verwendung eines Reinraums und einer Vielzahl von Werkzeugen und Technologien, um komplizierte Muster genau auf einen Siliziumwafer zu ätzen. Konkurrenzfähige Technologien wie optische Näherungskorrektur (OPC) und Prozesssteuerung werden eingesetzt, um eine präzise Prozesssteuerung zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ermöglicht die Verwendung von hochauflösenden Panels und Laser Direct Imaging (LDI), um winzige Strukturen herzustellen. Diese Maschine ist mit einer Heizplatte, einem Spin-Coater, einem Flüssigkeitsspender und einem TEL Zeus Belichtungsmodul ausgestattet. Jede dieser Komponenten ermöglicht in Kombination mit der Photolithographie die präziseste und genaueste Strukturierung von Schaltungen. Der Spin-Coater wird verwendet, um den Photolack gleichmäßig auf die Wafer zu dispergieren, während die Heizplatte zur Erwärmung des Photolacks verwendet wird. Der Flüssigkeitsspender, der vakuumunterstützt ist, hilft, gleichmäßige Mengen an Photolack abzugeben, um die Konsistenz zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Zeus Modul ermöglicht einen Laser-Direktabbildungsprozess, der die Belichtung von 12 Wafern gleichzeitig ermöglicht. Der vakuumunterstützte Flüssigkeitsspender ist ein wichtiger Bestandteil von Clean Track ACT 12. Diese Funktion hilft, hohe Gleichmäßigkeit, Genauigkeit und Profilkontrolle des Fotolacks zu erreichen. Durch diese Kombination von Elementen wird sichergestellt, dass der Photolack frei von Schmutz ist und somit sauberere Wände sowie eine bessere Leistung und Ausbeute bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Schließlich bietet TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Benutzern die Möglichkeit, den Prozess zu steuern. Es verfügt über ein integriertes Software-Tool zur Prozesssteuerung, mit dem Benutzer den Prozess überwachen und Einstellungen kalibrieren können, um präzise Muster zu erzeugen. Dies hilft, Fehlerquoten zu reduzieren und die Prozesskontrolle für eine effizientere Photolithographie-Entwicklung zu optimieren. Abschließend ist TEL Clean Track ACT 12 ein hochentwickeltes Photoresist-Asset, das für die Entwicklung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es verwendet eine Vielzahl von Werkzeugen in Kombination mit fortschrittlichen Belichtungs- und Nachbelichtungsprozessen, um die genaueste und präziseste Strukturierung von Schaltkreisen zu entlasten.
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