Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9259917 zu verkaufen

ID: 9259917
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
Resist coater / Developer system, 12" Single block Track 1: PI Coater cup (2) Developer cups ADH Track 2: Resist reduction: Developer: H Nozzle Resist pump: SHV 15 ml (Line 1) RDS 10 ml (Line 2~6) Oven configuration: (2) PHP (3) CPL (4) Standard LHP (2) High EXH LHP Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Coat bottle Thinner: OK73 2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Verarbeitungsanlage für den Einsatz in der Wafer- und Maskenherstellung. Das System bietet überlegene Leistung, zuverlässige Ergebnisse und eine kompakte Stellfläche für industrielle Lithographiebetriebe. Das Gerät verfügt über einen ultravioletten Laserscanner zur direkten Abbildung von Fotolack mit ausgezeichneter Bildqualität und Auflösung. Der Laser erzeugt genaue Belichtungsmuster in Photolack mit minimalen Resist-Ascheresten oder Energieverlusten. Das fortschrittliche Scanner-Design ermöglicht auch eine Hochgeschwindigkeitsverarbeitung und eine einfache Bedienung. Die Maschine verfügt auch über automatisierte Prozesssteuerung, um wiederholbare und stabile Ergebnisse zu gewährleisten. Es ist mit Laserintensitätssteuerung, Temperatur- und Bewegungssteuerung, Resistmusterung, Resistdickensteuerung und Prozessverfolgungsfunktionen ausgestattet. Das integrierte Tool kann mehrere Belichtungsprozesse mit gleichzeitiger Verfolgung jedes Prozesses durchführen. Neben einer verbesserten Leistung bietet TEL Clean Track ACT 12 auch einen verbesserten ökologischen Fußabdruck. Die Anlage nutzt ein optimiertes Design für reduzierten Wasser- und Stromverbrauch sowie eine verbesserte Wartung mit weniger Teilen. Es verfügt auch über einen leiseren Betrieb. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine ideale Wahl für Wafer- und Maskenherstellungsoperationen, die Präzisionskontrolle und Leistung von der Großserienfertigung bis zu kleinen Produktionsläufen erfordern. Das Modell bietet überlegene Leistung auf kleiner Fläche und ist damit eine kostengünstige Lösung für industrielle Lithographiebetriebe.
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