Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9266472 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12
ID: 9266472
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
(1) Coater / (2) Developer system, 12" 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung. Das System dient zum Aufbringen eines lichtempfindlichen Films auf eine Halbleiteroberfläche. Dies ermöglicht die präzise Steuerung und Manipulation der Dicken und Oberflächeneigenschaften der Folie. TEL Clean Track ACT 12 nutzt eine präzise lineare Stufe zusammen mit einer voll integrierten Vision/Ausrichtmaschine. Dies ermöglicht eine präzise Bewegung und genaue Lage der Folie. Das Vision/Alignment Tool gibt auch Feedback, um die Genauigkeit des Abscheidungsprozesses zu erhalten. Die Folie wird durch eine Reihe von Spinn- und Sprühköpfen abgeschieden. Der Spinnkopf dreht ein Substrat mit hoher Geschwindigkeit, während eine Sprühdüse die Photolackflüssigkeit auf die Substratoberfläche aufbringt. Nach dem Aufbringen der Flüssigkeit wird das Substrat mit einem Vakuumfutter gesichert, wodurch der Bildausrichtungsvorgang beginnt. Die Bühne kann das Substrat sowohl in der X- als auch in der Y-Achse präzise bewegen. An dieser Stelle wird der lichtempfindliche Film auf das Substrat ausgerichtet und das Bild kann genau auf den Film abgebildet werden. Das auf dem Substrat erzeugte Bild wird dann durch eine Blitzlampe getrocknet, bevor es ultraviolettem Licht ausgesetzt und entwickelt wird. Dieses photolithographische Verfahren ermöglicht die präzise Übertragung eines Musterdesigns auf das Substrat. Das Asset ermöglicht auch Dickenänderungen in der Photolackschicht, die ein präzises und genaues Schaltungsdesign ermöglichen. Nach der Entwicklung und Strukturierung des Photolacks wird dann das Substrat in den geätzten Prozess gebracht, der mit verschiedenen Chemikalien und Säuren den Photolack entfernt und die gewünschten Schaltkreise auf der Substratoberfläche bildet. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Modell bietet zuverlässige und präzise Photolithographie und Ätzprozesse, so dass es perfekt für hohe Volumen Anwendungsprozesse. Die Ausrüstung ist einfach zu bedienen und einfach zu warten. Darüber hinaus ist das System FOUP und Pod trackable, so dass es perfekt für die aktuelle Wafer-Fertigungsindustrie.
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