Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269255 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ein Photoresist-System, das für überlegene lithographische Genauigkeit und Prozessleistung entwickelt wurde. Photoresist ist ein chemisches Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungskomponenten und anderen mikroelektronischen Bauelementen. TEL Clean Track ACT 12 ist ein zweistufiges System auf Basis chemischer Materialien, das aus drei Hauptkomponenten besteht: einem positiven Photoresist-Resist, einem Pre-Spin-Resist und einem negativen Photoresist. Positive Photoresist-Resists werden bei Halbleiterherstellungsverfahren wie Kontaktätzen, Gatekontaktätzen, dielektrischem Ätzen und Polysiliziumdotierung eingesetzt. Dieser Resist hat eine hohe Empfindlichkeit gegenüber UV-Licht und erzeugt ein Bewegungsbahnmuster auf der Waferoberfläche. Pre-Spin Resist spielt auch bei der Halbleiterherstellung eine wichtige Rolle. Es stabilisiert die Filmstruktur und leitet das Ätzen des Maskenmusters ein. Schließlich wird negativer Photolack verwendet, um die unerwünschten Teile des Musters zu entfernen, ohne die gewünschten Teile anzugreifen. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 bietet eine überlegene lithographische Genauigkeit aufgrund seiner Fähigkeit, die Resistdicke, das Muster CD und die Gleichmäßigkeit des Resists genau zu kontrollieren. Dies wird durch die fortschrittliche Filmentwicklungsüberwachung, ein hochgenaues Rückseitenreflexionswerkzeug und andere integrierte Prozesssteuerungsfunktionen erreicht. Darüber hinaus ist das System mit einer automatisierten Durchlaufbaugruppe ausgestattet, die bei der Herstellung von Bauteilen mit konsistenten Geometrien und Abmessungen entscheidend ist. Ferner weist die Clean Track ACT 12 einen hochauflösenden Aufzugsmechanismus auf, der einen gleichmäßigen Widerstandsspalt zwischen dem Wafer und dem Substrat ermöglicht. Das Ergebnis sind hochwertige Waferteile mit reduzierter Verschmutzung, verbesserter Ausbeute und verbesserter Leistung.