Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269256 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ein Photolacksystem, das für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es liefert konsistente, hochwertige Ergebnisse mit überlegener Sauberkeit und überlegenem Umgang mit Substraten. Dieses System ist eine sehr vielseitige Plattform für die Entwicklung von Photoresists für verschiedene Abscheidungsanwendungen, einschließlich elektrostatischer Abscheidung, chemisch-mechanischer Planarisierung (CMP) und anderen Spezialanwendungen. TEL Clean Track ACT 12 besteht aus drei Hauptkomponenten: dem Mainframe, dem Hauptprozessor und den dazugehörigen Softwarepaketen. Das Mainframe beherbergt den zweiachsigen Drehtisch, der benötigt wird, um die Zielsubstrate während der Verarbeitung zu halten. Der Hauptprozessor enthält alle Komponenten, die für den Betrieb der während des Photolackprozesses benötigten Software erforderlich sind. Dies beinhaltet die Berechnungen, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit der Anwendung zu steuern, sowie die eigentliche Software, die notwendig ist, um das gewünschte Muster zu erstellen. Darüber hinaus enthält der Prozessor auch alle für den Betrieb des mikroprozessorbasierten Touchscreens erforderlichen Komponenten, die es dem Bediener ermöglichen, die Prozessparameter exakt zu steuern. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 enthält verschiedene Werkzeuge zur optimalen Abscheidung von Photolack auf dem Substrat. Dazu gehören Maskenplatten zum Aufbringen des Fotolacks sowie ein Hilfswerkzeug, mit dem das lichtempfindliche Material von der Maskenplatte auf das Substrat übertragen wird. Das System beinhaltet auch ein laserbasiertes Heizwerkzeug, um eine gleichmäßige Beschichtung auf dem Substrat zu erzeugen, und einen Vakuumaufsatz für die Reinigung nach Abschluss des Prozesses. Die Reinigung und Verarbeitung des Substrats erfolgt durch eine spezielle Maschine, die eine Kombination aus chemischen Reinigern, abrasiven Reinigern und Ätzlösungen verwendet, um Verunreinigungen aus dem Substrat zu entfernen. Nach Beseitigung der Verunreinigung wird ein chemischer Primer aufgebracht und vor dem Aufbringen von Photoresist trocknen gelassen. Die Photolackabscheidung erfolgt dann mit einer Reihe von Rechteckimpulsen bestimmter Breite und Frequenz. Durch zusätzliche Behandlungen kann gegebenenfalls die Haftung des Photolacks auf dem Substrat verbessert werden. Clean Track ACT 12 liefert konstante, hochwertige Ergebnisse mit überlegener Sauberkeit und überlegenem Umgang mit Substraten. Es ist eine ideale Plattform für die Entwicklung von Photoresists für verschiedene Abscheidungsanwendungen und spezialisiert auf elektrostatische Abscheidung, chemisch-mechanische Planarisierung und andere Spezialanwendungen.