Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9272286 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den hochqualitativen Druck anspruchsvoller Schaltkreise mit hoher Präzision entwickelt wurde. Dieses robuste System ist in der Lage, extrem komplizierte Linienstrukturen mit minimaler Verzerrung und hoher Genauigkeit zu drucken. Es hat eine Spurbreitenentschlossenheit von 350 Nanometer und eine Schicht-zu-Schicht-Wiederholbarkeitstoleranz von weniger als 3 Nanometer. Die Photolackeinheit besteht aus einem zweistufigen Verfahren mit Spin-on-Resist und lithographischer Bildgebung. Zunächst wird Spin-on-Resist auf das Substrat oder den Wafer aufgebracht. Dieser Flüssigkeitsresist wird auf den Wafer aufgegeben und dann mit hoher Geschwindigkeit gedreht, um eine gleichmäßige Schicht über das gesamte Substrat zu verteilen. Der Resist muss mit einer extrem hohen Präzision und Gleichmäßigkeit aufgebracht werden, um qualitativ hochwertige Drucke zu erzielen. Nach dem Aufbringen des Spin-on-Resists wird der Wafer dann einer Hochleistungs-UV-Lichtquelle ausgesetzt. Hier erfolgt die lithographische Bildgebung. Die Vorrichtung ist in der Lage, Lichtenergie und Belichtung exakt zu steuern, um aus der Resistschicht ein „negatives“ Bild zu erzeugen. Mit dem lithographischen Bild wird dann das gewünschte Schaltungsdesign gedruckt. Nach dem bildgebenden Verfahren werden eine Kaskade aus Entwickler-, Spül- und Ofenschritten verwendet, um das Design in die Resistschicht einzubacken. Die Maschine kann Wafer bis 8 Zoll Durchmesser verarbeiten und für den manuellen oder automatischen Betrieb eingerichtet werden. Die Geschwindigkeit und Genauigkeit des reinen Spurwerkzeugs machen es perfekt für den hochpräzisen Druck komplizierter Schaltkreise. Das Asset ermöglicht auch die Nachbearbeitung, um die Bildauflösung zu verbessern. Dazu gehören mehrere Resistschichten, selektives Dotieren, Laserschneiden und andere fortschrittliche Techniken. TEL Clean Track ACT 12 ist ein einfach zu bedienendes und dennoch leistungsstarkes Photolackmodell, das anspruchsvolle Schaltungsentwürfe mit minimaler Abweichung herstellen kann.
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