Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9276181 zu verkaufen

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ID: 9276181
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
(2) Coat / (2) Developer system, 12" Direction: Left to right System power rating: AC, 208 V, 3 Phase Loading configuration: (3) FOUP Main system Coater unit (2-1, 2-2 Module): RDS Pump Resist supply: Gallon bottle DEV unit (2-3, 2-4 Module): Developing nozzle: SH ADH Unit: (2) CWH (2) CHP (4) PHP (2) CPL (2) TRS 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL entwickelt wurde, um eine hohe chemische Sauberkeit für die Halbleiterindustrie zu gewährleisten. Das System besteht aus zwei Stufen; die erste Stufe ist eine Vorbeschichtung, die speziell zur Vorbehandlung der Oberfläche des Wafers und zur Verringerung der Prozesskiller-Kontamination ausgelegt ist. An diese Vorschicht schließt sich dann eine zweite Stufe an, bei der es sich um eine chemische Reinigung handelt, die speziell darauf ausgelegt ist, unerwünschte Verunreinigungen von der Waferoberfläche zu entfernen. TEL Clean Track ACT 12 Einheit bietet ausgezeichnete chemische Sauberkeit und überlegene Bildqualität, um die höchstmöglichen Produktionserträge zu gewährleisten. Die Maschine arbeitet zunächst mit einer Vorschicht auf der Waferoberfläche, um Verunreinigungen zu entfernen und Sauberkeit zu gewährleisten. Dies geschieht durch Freigabe einer speziell entwickelten Flüssigkeitslösung auf den Wafer. Da die Flüssigkeit auf den Wafer gesprüht wird, wirkt sie, um Partikel und andere unerwünschte Trümmer von der Oberfläche zu reduzieren. Dadurch kann die chemische Reinigung dann effizienter erfolgen. Nach dem Aufbringen der Vorschicht wird die zweite Stufe des Werkzeugs eingeleitet. Bei dieser Stufe handelt es sich um eine chemische Reinigung, die zur Entfernung zusätzlicher Verunreinigungen und anderer unerwünschter Stoffe ausgelegt ist. Zu Beginn dieses Verfahrens wird ein hochkonzentriertes chemisches Gemisch auf die Waferoberfläche aufgebracht. Diese Mischung wird dann ultraviolettem Licht ausgesetzt, sowie eine Bereicherung von heißen Platten, die helfen, die Waferoberfläche zu erwärmen. Diese beiden Komponenten arbeiten dann zusammen, um die Waferoberfläche effektiv zu reinigen und unerwünschte Partikel weiter zu beseitigen. Schließlich wird nach der Reinigung des Wafers eine Nachschicht zugegeben, um weiteren Fremdverunreinigungen zu widerstehen. Diese Nachbeschichtung bietet eine glatte Oberfläche und hilft, den Wafer vor Partikeln und anderen unerwünschten Elementen weiter zu schützen. Das Ergebnis ist eine saubere und hocheffiziente Oberfläche, die für eine Vielzahl verschiedener Produkte und Projekte verwendet werden kann. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Modell ist in der Halbleiterindustrie für seine überlegene Qualität der chemischen Sauberkeit und Bildqualität hoch angesehen. Es hilft, die Notwendigkeit der manuellen Reinigung zu beseitigen und bietet überlegene Produktionserträge. Es ist ein wesentliches Werkzeug für die Halbleiterindustrie und für Kunden, die höchste Sauberkeit und Effizienz benötigen.
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