Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Right to left
Carrier type: Notch
25-Slots
(3) Main controllers
(2) Processor blocks
(2) PRB's
(2) Thermo controllers
NIKON Stepper
H-Type nozzle
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
(4) ASYST RFID FOUP Systems
Normal cassette type
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4):
(4) Dispense nozzles with temperature control lines
RDS pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
(2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Programmable side rinse
Direct drain type
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type:
NLD Nozzle
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
(2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Developer temperature control system
Direct drain type
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(12) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
(13) High-Speed Cill Plates (HCP)
(6) High-Precision Hot Plates (PHP)
Transition Chill Plate (TCP)
(2) Transition Stages (TRS)
(2) Wafer Edge Exposures (WEE)
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
(2) Temperature Control Units (TCU)
MFC
Missing parts:
IRA Z-Axis driver
IRA Y-Axis driver
IRA TH-Axis driver
Temperature and humanity controller
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photolackverarbeitungsanlage, die von TEL (TOKYO ELECTRON) entwickelt wurde. Es unterstützt sowohl lithographische Prozesse als auch Nachbearbeitungsschritte bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das System kombiniert einen Laserscanner, eine Flüssigkeitstaucheinheit und einen automatischen Dispense und Aligner und ist damit ein vielseitiges Werkzeug für die Photolackverarbeitung. Der Laserscanner dient zur Belichtung der Photolackschicht auf einem Siliziumwafer mit ultrakurzer Laserpulsbreite. Der Laserpuls ist fein abgestimmt, um die Photolackschicht für anspruchsvolle Merkmalsmuster zu reflektieren. Die Flüssigkeitstauchmaschine sorgt für eine gleichmäßige Photolackbeschichtung unter Ausnutzung des natürlichen Auftriebs der in der Behandlungskammer abgegebenen Flüssigkeit. Der Dispense und Aligner ermöglicht bei Bedarf das präzise Aufbringen zusätzlicher Resistschichten. TEL Clean Track ACT 12 ermöglicht verschiedene Belichtungs- und Resistverarbeitungsparameter, die angepasst werden können, um die gewünschte Merkmalsmusterung zu variieren. Es bietet eine Auswahl sowohl der Strukturierung von Funktionen mit hoher Dichte als auch der Steuerung der Linienbreite für Ätzprozesse. Dies bietet dem Anwender die Vielseitigkeit, die Verarbeitung auf spezifische Konstruktionsanforderungen abzustimmen. Das Werkzeug hat Sicherheitsfunktionen eingebaut. Die Inline-Kamerasensoren im Laserscanner sorgen dafür, dass der Wafer korrekt positioniert ist und keine Verunreinigungen vorliegen. Darüber hinaus bietet die Immersionskomponente ein wirksames Mittel, um die Verunreinigung von Photoresist zu reduzieren, so dass die Benutzer sich keine Sorgen um eine Verschmutzung des Wafers oder der Verarbeitungskammer machen müssen. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 wurde für die Verarbeitung von 300-mm-Wafern entwickelt und bietet verbesserte Durchsätze gegenüber den Vorgängern. Das Modell verwendet kostengünstige Verbrauchsmaterialien und ist extrem effizient bei der Nutzung von Energie, wodurch die Anwender ihre Produktionskosten senken und gleichzeitig ihren ökologischen Fußabdruck reduzieren können. Insgesamt ist Clean Track ACT 12 eine hochmoderne Photolackverarbeitungsanlage, die den Anforderungen moderner Halbleiterbauelemente gerecht wird. Die Laserscanning-, Flüssigkeitseintauch- und Ausrichtungstechnologie ermöglicht eine schnelle Produktionsbewegung, während die eingebauten Sicherheitsmerkmale ein Höchstmaß an Prozesskontrolle gewährleisten. Das kostengünstige und energieeffiziente Design des Systems macht es zu einem wertvollen kostengünstigen Werkzeug für jeden Halbleiterherstellungsprozess.
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