Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9373073 zu verkaufen
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ID: 9373073
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
(2) Coater / (2) Developer system, 12"
Load port: (3) FOUPs
Main controller: Type 2
Coater 2-1 and 2-2:
R1-R4
(4) PR Nozzles
EBR
Resist pump type: RRC Pump
PR Filter type: Housing type
Developer 2-3 and 2-4:
Developing nozzle: Dual H nozzle
Top rinse: Single nozzle
Plates: (2) ADH, (7) LHP, (5) CPL, (4) PHP, (2) TRS, TCP
IFB: WEE, Buffer, CPL, THS
SHINWA ESA-8-T-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244 Temperature control unit
Chemical cabinet:
HDMS: Gallon bottle supply
Buffer tank: 3 L
Solvent: CSS With 3 L buffer tank
Developer: CSS with 3 L buffer tank
AC Power box: AC200/220 V, 157 A, 10 kA, 3 Phase
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Bereitstellung von Präzisionslithographie auf Wafer-Bildgebungssubstraten. Es ermöglicht fortschrittliche Waferbearbeitungstechniken, einschließlich Hochdurchsatzätzen, Kontaktbelichtung mit hoher Dichte und konforme Beschichtungsanwendungen. Das System kombiniert fortschrittliche Partikelkontrolltechnologie mit robustem Hardware- und Softwaredesign für maximale lithographische Ausbeuten. TEL Clean Track ACT 12 Einheit enthält ein 12-Zoll-Vakuumfutter mit 6 Mehrzonen-Temperaturregelung für schnelle Waferbearbeitung. Dies wird mit einem Ultrahochvakuumverfahren zur Waferkühlung, Handhabung und Reinigung kombiniert. Dadurch wird die Übertragung von Verunreinigungen zwischen belichteten und unbelichteten Bereichen des Wafers reduziert, wodurch sichergestellt wird, dass die Prozessergebnisse konsistent sind und Störungen minimiert werden. Der Kern der Maschine ist die CO2-laserbasierte Projektionslinse, die eine präzise Bildgebung und hohe Seitenverhältnisbelichtung bietet. Das hochgenaue Ausrichtwerkzeug liefert Präzision auf Nanometerniveau und bietet die für fortschrittliche Lithographieanwendungen erforderliche Zuverlässigkeit und Genauigkeit. Das Asset kann bis zu 50 Wafergrößenvariationen aufnehmen, einschließlich einer doppelseitigen Belichtung, die die Produktivität verdoppelt, indem beide Seiten des Wafers gleichzeitig abgebildet werden. Darüber hinaus ermöglicht der erweiterte Fokussierbereich des Modells eine kleine Linienbelichtung von 0,4 bis 40 Mikron, wodurch Anwender die Produktionskosten von Schaltungen bei Anwendungen mittlerer bis hoher Dichte reduzieren können. Die benutzerfreundliche Prozesssteuerungssoftware bietet eine einfache Einrichtung und einfache Bedienung, die eine einfache Bedienung über eine breite Palette von Prozessrezepten ermöglicht. Das Gerät ist kompatibel mit allen gängigen Resists und Entwicklern und sorgt für eine optimale Fotowiderstandsfähigkeit. Zusammenfassend ist das TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 System eine zuverlässige und präzise Photolackeinheit, die eine präzise Waferbildgebung ermöglicht. Sein robustes Hardware- und Softwaredesign, kombiniert mit fortschrittlicher laserbasierter Bildgebung und Fokussteuerung, ermöglichen überlegene Ergebnisse für hohe Durchsätze, kleine Linienbilder und doppelseitige Belichtungsprozesse.
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