Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9395682 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 Photoresist-Ausrüstung ist eine hochpräzise, automatisierte Photolithographie-Maschine mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, um Kontamination zu reduzieren und die Leistung zu verbessern. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten zu verarbeiten und hochgenaue Strukturen mit minimaler Verzerrung und Präzision zu erzeugen. TEL Clean Track ACT 12 verwendet ein hochmodernes Vakuumverfahren zur Entfernung von Luftblasen, Staub und anderen Verunreinigungen aus dem Substrat vor der Verarbeitung. Substratverunreinigung wird weiter durch den Gebrauch einer hohen Spezialtemperatur, Reinigungsprozess des Hochdrucks minimiert. Das Gerät umfasst auch eine automatische, optische Ausrichtmaschine, die die Genauigkeit durch präzise Ausrichtung von Substrat und Maskenmuster für jeden Schritt des Photolithographie-Prozesses erhöht. Das Werkzeug verwendet leistungsstarke 12-Zonen-Belichtungslampen, um das Substrat präzise dem Licht auszusetzen, wobei jede Zone unabhängig von einem computergesteuerten Gerät gesteuert wird. Die Gesamtbelichtungszeit kann exakt gesteuert werden, um eine genaue Strukturierung ohne übermäßige Belichtung zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 verwendet eine spezialisierte Maskentischbaugruppe, die entwickelt wurde, um eine hohe Schwingungssteuerung aufrechtzuerhalten und thermische Verzerrungen zu reduzieren. Zusätzlich ist das Modell mit mehreren Reglern und Rückkopplungssensoren ausgestattet, die Druck, Temperatur und Vibration des Tisches überwachen, um diese Pegel innerhalb der Spezifikation zu halten. Die Ausrüstung umfasst auch ein modernes chemisches Abgabesystem, das eine genaue chemische Beschichtung gewährleistet, sowie eine spezialisierte chemische Rückgewinnungseinheit, die den Photoresist für die Wiederverwendung zurückgewinnt. Nach der Photolithographie ist die Maschine mit einer speziellen Nachbearbeitungseinheit ausgestattet, die das Profil des Substrats genau messen kann, um die Genauigkeit zu überprüfen und eventuelle Fehler zu erkennen. Die Nachbearbeitungseinheit dient auch zur Unterstützung des Reinigungsprozesses, zur Entfernung von chemischen Rückständen und eventuell verbleibenden Verunreinigungen. Zusammenfassend ist Clean Track ACT 12 Photoresist-Tool eine hochentwickelte, automatisierte Lithographie-Maschine, die hochpräzise Strukturen mit minimaler Verzerrung und Präzision erzeugt. Das Asset nutzt mehrere erweiterte Funktionen, um Kontaminationen zu minimieren und die Genauigkeit und Leistung zu verbessern.