Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 7 #293656056 zu verkaufen

ID: 293656056
Weinlese: 1997
System 1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die aus einer modularen Plattform besteht, die speziell für erweiterte Speicher- und hochdichte Geräteherstellung entwickelt wurde. Dieses System verfügt über die höchsten Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen für präzise und schnelle parallele Strukturierung für die mehrstufige Lithographie. TEL Clean Track ACT 7 ist ein hochspezialisiertes Gerät auf der Basis von projiziert-optischer Punktverarbeitung, eine innovative Resistbelichtungstechnologie, die von TEL entwickelt wurde. Diese Technologie verwendet eine Einkopf-Flüssigkristall (LC) -Projektionseinheit, um fein abgestimmte Submikron-Musterdaten auf Beleuchtungsbereiche zu projizieren, die so klein wie 1 Mikron auf dem belichteten Resistfilm sind. Dies ermöglicht eine extrem genaue Bilderzeugung und eine saubere Resistmusterung. Die ACT 7-Maschine verfügt auch über mehrere Automatisierungsfunktionen, darunter einen Präzisionsfotomaskenwechsler und einen automatisierten Spaltunterdrückungs- und Belichtungskopf, mit dem sie eine hochgenaue Bilderzeugung durch komplexe Spaltabtastung ohne Beeinträchtigung der Bildqualität aufrechterhalten kann. Dieses Werkzeug hat auch die Fähigkeit, mehrere Resistmaterialien auf dem gleichen Wafer zu integrieren, so dass es für eine Vielzahl von Prozessen geeignet ist. Darüber hinaus unterstützt das ACT 7 eine breite Palette von Verfahren wie Pre-Exposure-Bake (PEB), Post-Exposure-Bake (PEB) und Post-Developmentbake (PDB). Seine fortschrittliche Lithographie-Software unterstützt auch eine Vielzahl von Bilderzeugungsmodi, einschließlich automatisierter optischer Näherungskorrektur (OPC) und fortschrittlicher Vor- und Nachmusterprozesse. In der Zusammenfassung ELEKTRON VON TOKIO ist Sauberes Spuren-GESETZ 7 ein fortgeschrittener photowiderstehen Vermögenswert, der ein Singlehauptflüssigkristallvorsprungsmodell, automatisierte Schlitzscanunterdrückung und Aussetzungskopf, Präzisionsfotomaskenwechsler und hoch zuverlässige Steindruckverfahrensoftware zeigt, die das genaue und saubere Mustern für das fortgeschrittene Gedächtnis und die dichte Gerätherstellung ermöglichen. Es eignet sich für eine Vielzahl von Prozessen, wie PEB und PDB, und unterstützt eine Vielzahl von Bilderzeugungsmodi.
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