Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 / ACT 12 #9138478 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8/ACT 12 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um hochauflösende Muster mit Sub-Mikron-Komponenten für verschiedene Anwendungen wie Halbleiter und andere mikroelektronische Komponenten zu erstellen. Das System kommt in zwei Konfigurationen - ACT 8 und ACT 12 - und kann bis zu 8- bzw. 12-Zoll-Wafer verarbeiten. Die Einheit verwendet fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen, um genaue und wiederholbare Ätzergebnisse zu gewährleisten und eignet sich ideal für die Verarbeitung von Photolackschichten, bei denen die Attribute des zugrundeliegenden Musters auf Submikron-Ebene hoch steuerbar sind. Das mikroprozessorgesteuerte Prozess- und Belichtungswerkzeug der Maschine ermöglicht eine hochpräzise Strukturierung von Sub-Mikron-Merkmalen. TEL Clean Track ACT 8/ACT 12 bietet eine Reihe von Lithographie- und Belichtungsmöglichkeiten wie optische Näherungskorrektur (OPC), chemisch-mechanisches Polieren (CMP) und Laserätzen für Ultraviolett- (UV) und Elektronenstrahl (EB) resistent. Die Anlage bietet auch mehrere erweiterte Funktionen für Substrat Vorbehandlung, thermisches Management und Wafer-Verarbeitung wie eingebaute Subsysteme für Stress/Defekt-Kontrolle, Kantenerosion, Stabi-R-Verarbeitung und Auto-Check. Das Modell ist auch für den Umweltschutz mit automatisierten Prozessen konzipiert, die kontinuierlich Gasverbrauch und Druckniveau überwachen und die Luftzufuhr innerhalb der Kammer aufrechterhalten, um Kreuzkontamination und Geruchsbildung zu verhindern. Darüber hinaus verfügt die Ausrüstung über eingebaute Sicherheitsmerkmale, um sicherzustellen, dass die höchsten Schutzstandards erreicht werden. Insgesamt bietet TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8/ACT 12 ein effektives Photolacksystem für eine Vielzahl fortschrittlicher Lithographieanwendungen. Seine Fähigkeit, 8- und 12-Zoll-Wafer zu verarbeiten, kombiniert mit seiner flexiblen Palette an Belichtungs- und Lithographieoptionen und fortschrittlichen Prozesskontrollfunktionen machen es zu einer idealen Lösung für die Erstellung hochauflösender Muster mit Submikron-Komponenten.