Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #162692 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für Anwendungen wie Halbleiter-Wafer-Photolithographie. Es ist ein fortschrittliches Design mit Verbesserungen der traditionellen Photolack- und SOLIDLINE PRECISION-Prozesse. Das ACT 8 System ermöglicht eine hochauflösende Lithographie mit der Reduzierung von Prozessfehlern und Verschmutzungen. Kern der ACT 8-Einheit sind seine ECD (Electron Cyclotron Deposition) Sprühmittel, die zur Verbesserung der Qualität der Photoresistschichten dienen. Die Mittel werden während des Sputterprozesses eingesetzt, was zu reduzierten Defekten und minimiertem Verunreinigungspotenzial führt. Dadurch kann eine größere Fläche der Photolackschicht belichtet werden, wodurch eine gleichmäßige Dicke und eine gleichmäßige Oberflächentopologie gewährleistet ist. Die ACT 8 Maschine verfügt auch über Verbesserungen der Photoresist Chemie, so dass es eine viel stärkere Haftfestigkeit und verbesserte Beschichtungsfähigkeit. Seine niedrige Verlustrate und der geringere Korrekturbedarf helfen, Zeit und Geld bei der Photolithographie zu sparen. Neben den ECD-Spritzmitteln nutzt der ACT 8 auch die TEL-patentierte „Säule“ -Technologie, die hilft, die Photolackmaterialien effektiver zu erfassen, den Korrekturbedarf zu reduzieren und eine bessere Gleichmäßigkeit mit der Photolackschicht zu gewährleisten. Es reduziert auch die Anzahl der Partikel, die während des Prozesses elektrostatische Entladung verursachen könnten. Das ACT 8-Tool bietet zudem eine verbesserte Fehlerfalle und einen tieferen fehlerfreien Bereich. Dies trägt dazu bei, die Qualität kritischer Merkmale während des Lithographieprozesses zu verbessern und gleichzeitig die Chancen auf Abschaum und fehlerbedingte Ertragsverluste zu reduzieren. Schließlich nutzt das ACT 8 Asset eine Experten-Software-Suite, die hilft, das Verhalten der Photolackschicht zu analysieren und vorherzusagen und mögliche Probleme zu erkennen, bevor sie irreversibel werden. Die Software hilft auch, die Programmierzeit zu reduzieren und eine effiziente Produktion zu gewährleisten. TEL Clean Track ACT 8 bietet eine effiziente und zuverlässige Möglichkeit, Wafer mit verbesserten Lithographieverfahren sowie verbesserten Chemikalien und Software zu verarbeiten. Dies macht es zu einer idealen Wahl für alle Halbleiteranwendungen, die ein komplexes Photolithographie-Verfahren erfordern.