Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293592456 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für fortschrittliche Nanotech-Lithographieverfahren. Das System ist mit zwei Scannern ausgestattet, einer, der im Ultraviolett und der andere im Infrarot arbeitet. Das Gerät ist so konzipiert, dass es eine außergewöhnliche Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit sowie eine überlegene Gleichmäßigkeit auch über lange Betriebszeiten bietet. TEL Clean Track ACT 8 ist eine einzigartige Maschine, die einen fortschrittlichen Autofokus-Mechanismus, eine proprietäre Isolationstechnologie und eine aktive Einstellung des Kontrastverhältnisses des Fotolacks verwendet, um eine hohe Maßgenauigkeit des resultierenden Musters zu gewährleisten. Die automatische Fokussierungsfunktion ermöglicht eine schnelle, genaue und wiederholbare Optimierung der Fokusposition und -tiefe und gewährleistet eine konsistente hochpräzise Musterübertragung. Der patentierte Isolationsmechanismus reduziert die Photoresist-Vibration oder andere Verzerrungsquellen während des Betriebs erheblich. Durch die aktive Kontrasteinstellfunktion kann das Werkzeug schließlich das Kontrastverhältnis entsprechend der gewünschten Musterauflösung anpassen. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist ein vierspuriges Asset, bestehend aus einer Beleuchtungsstufe, einer Photolithographiestufe, einer Nachbelichtungsbackstufe (PEB) und einer Beschichtungs-/Entwicklungsstufe. Optische Komponenten werden auf jeder Stufe in einer abgedichteten Umgebung isoliert, um Verunreinigungen zu minimieren. Spezielle Fangvorrichtungen werden verwendet, um die Erzeugung von Partikeln zu vermeiden, die zu Verzerrungen im Muster führen können. Die Beleuchtungs- und Photolithographiestufen verwenden eine Vielzahl von hochpräzisen Optiken, einschließlich fortschrittlicher optischer Hysteresetechnologie, um Verzerrungen durch thermische Veränderungen sehr gering zu halten. Die Nachbelichtungsbackstufe ist mit Quarzhalogenlampen ausgestattet, die für eine gleichmäßige Erwärmung sorgen. Die Temperatur des PEB-Prozesses kann genau eingestellt werden, um die Qualität der Musterübertragung zu steuern. Die Backstufe nach der Exposition kann bis zu acht Kassetten aufnehmen, wodurch die Zeit für Backprozesse nach der Exposition reduziert wird. Die Beschichtungs-/Entwicklungsstufe ist mit einem hochgenauen Roboterarm zur präzisen Bewegung der Wafer ausgestattet. Die Plasmaerzeugungseinheit dient zur präzisen Ätzung zur Musterentwicklung sowie zur Waferreinigung. Die Wafer werden dann einer präzisen, hochauflösenden Abbildungsoptik zur überlegenen Musterübertragung ausgesetzt. Clean Track ACT 8 ist ein komplettes, hochpräzises Photolithographiemodell, das entwickelt wurde, um die Effizienz zu maximieren und eine präzise Musterübertragung zu gewährleisten. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen die Ausrüstung robust, zuverlässig, präzise und wiederholbar, auch über lange Betriebszeiten.