Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9057502 zu verkaufen

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ID: 9057502
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Single block system, 8" (3) Blocks interface: Cassette-process-side cabinet interface (2) Transfer robot arms: Cassette and process (2) SOG Coaters (2) SOG nozzles with temperature control TARC compatible: Teflon coated chamber (4) Chill plate process stations with temperature control Transfer chill plate (4) Low temperature hot plate process stations with temperature control (4) High temperature hot plate process stations with temperature control Sub-components: Fluid temperature controller Temperature and humidity controller Side chemical cabinet AC Power box SECS/GEM compatible 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur präzisen Ätzung, Beschichtung und Adhäsion bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wird hauptsächlich in den Bereichen der Leiterplattenbaugruppe und Waferbearbeitung verwendet. Das System verwendet eine spezielle Form eines Photoresist (PR) -Materials, das auf der Waferoberfläche aufgebracht wird und es der Lichtquelle ermöglicht, bestimmte Teile des Materials zu ätzen. Das PR-Material wird mit einer Vakuumbeschichtungsvorrichtung auf die Oberfläche aufgebracht, die das PR-Material gleichmäßig über die Oberfläche verteilt. Sobald das Bauteil von PR-Material umgeben ist, wird die Lichtquelle aktiviert, und es wird das Material nach den angegebenen Konstruktionsdaten selektiv ätzen. Durch die Einstellung der Lichtintensität, Belichtungszeit und des Winkels der Lichtquelle kann das für das Bauelement erforderliche Muster erreicht werden. Das Gerät ist für eine präzise und genaue Positionierung des PR-Materials ausgelegt, was für die Erstellung genauer und exakter Komponenten unerlässlich ist. Um diese Maschine zu erreichen, verfügt über ein hochauflösendes Stufenwerkzeug und eine Luftlagerstufe mit einer Präzision von 3 Mikrometern. Das Luftlagerstufenmodell kann verwendet werden, um die Komponenten vor dem Ätzen genau zu positionieren. Neben dem Ätzen ist das Gerät auch in der Lage, innere und äußere Ecken eines Produkts mit einer einzigen Anwendung zu beschichten. Dies erleichtert zudem die Herstellung genauer und aufwendiger Konstruktionen. Um die Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, ist das System mit Ausrichtungs- und Gleichmäßigkeitsprüfungsmerkmalen ausgestattet, die Abweichungen von der Gleichmäßigkeit erkennen, um rechtzeitige Anpassungen zu ermöglichen. Darüber hinaus ist die Einheit auch in der Lage, Haftverfahren wie Metallabscheidung, Aktivierung, eine Klebehärtung durchzuführen. Die Maschine wendet ein sehr starkes Vakuum an, um sicherzustellen, dass das Aufbringen des Klebstoffs konsistent ist und der Härtungsprozess präzise ist. Insgesamt ist TEL Clean Track ACT 8 ein präzises und vielseitiges Photolackwerkzeug, das sich gut für die Herstellung von Halbleiterbauelementen eignet. Das Asset die notwendigen Funktionen, um ein qualitativ hochwertiges Produkt mit wenig bis keine Abweichung von der Zielkonstruktion zu gewährleisten.
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