Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9078027 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die saubere, effiziente und zuverlässige lithographische Prozesse in der Halbleiterherstellung ermöglicht. Das System führt Photoresiststreifenfunktionalitäten aus und wird verwendet, um Photoresists nach einer lithographischen Belichtung von der Oberfläche des Wafers zu entfernen. Die Einheit bietet auch Reihenoberflächenverschmutzungsüberwachung sowie Oberflächenreinigung des lithographischen mandrels. TEL Clean Track ACT 8 Maschine nutzt fortschrittliche aktinische Technologie, um verbesserte Gleichmäßigkeit der Oberflächenfilmdicke, erhöhte Prozessgeschwindigkeit und verbesserte Wafer Oberflächenreinheit zur Verfügung zu stellen. Es integriert einen 450W Xe Excimer Laserscanner, um eine hohe Durchsatztiefe ultraviolette (DUV) Verarbeitung für Nassätzprozesse wie Tieflochätzen bereitzustellen. Das Werkzeug wurde entwickelt, um eine geringere Defektivität bei hoher Genauigkeit der Bandeffizienz und verbesserter Prozessstabilität zu ermöglichen. Es verfügt über einen verbesserten chemischen Injektor zur präzisen Steuerung von Dotierstoffen für nanostrukturierte Resistverarbeitung sowie eine verbesserte Stufenlaufgenauigkeit für nanoskalige Ätzprozesse. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein hochauflösendes Mikroskop zur automatisierten Photolacksegmentierung und verbesserten Fehlerinspektion. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 Modell ist mit einer niedrigen thermischen Emissionsquelle ausgestattet, um Wafertemperaturexkursionen während Tiefätzprozessen zu reduzieren, und eine verbesserte Gruppenelektrodenkonfiguration für eine verbesserte Gleichmäßigkeit von Resist Etch und Oberflächenfilmdicke. Es verfügt außerdem über eine automatisierte Reinraumverwaltung und ein Überwachungssystem, um mehr Sicherheit, Zuverlässigkeit und Effizienz zu gewährleisten. Anwender der Clean Track ACT 8 Einheit profitieren von kurzen Zykluszeiten und erhöhter Stabilität und Zuverlässigkeit, was sie zu einer idealen Wahl für effiziente und genaue Halbleiterherstellungsprozesse macht. Es bietet geringere Betriebskosten und einen verbesserten Durchsatz im Vergleich zu anderen auf dem Markt verfügbaren Lösungen. Darüber hinaus ermöglicht die einfach zu bedienende Software eine automatisierte und konsistente Kalibrierung für Lithographieprozesse.