Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165438 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist ein Photoresist-Gerät zur Herstellung integrierter Schaltungen. Das System besteht aus einer spezialisierten multichromatischen Laserquelle, einer optischen Maske und einem Schichtfotoresistfilmstapel. Die Laserquelle sorgt für einen hochpräzisen und lokalisierten radialen Energiefluss, wodurch der Photolack durch die optische Maske belichtet werden kann. Der in der Einheit verwendete Photolackstapel besteht aus mindestens vier Schichten. Die erste Schicht ist eine Maskierungsschicht, die als physikalische Barriere dient, um darunter liegende Schichten vor der Belichtung mit dem Laserstrahl zu schützen. Die zweite Schicht ist eine lichtempfindliche Schicht, die entweder aus Photolack oder Chemikalien mit lichtempfindlichen Eigenschaften besteht. Diese Schicht ist speziell dafür ausgelegt, ein Ätzen nur dann zu ermöglichen, wenn sie Licht ausgesetzt ist. Die dritte Schicht ist ein Entwickler, der dabei hilft, die unerwünschten Teile der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen. Die Endschicht ist eine Passivierungsschicht, die eine unerwünschte Belichtung des fotografierten Bereichs verhindert. Der Hauptvorteil von TEL Clean Track ACT 8 ist seine hochauflösende und wiederholbare Bildgebungsfähigkeit, die auf den fokussierten Energiefluss der ultrafeinen Bewegungslaserquelle zurückzuführen ist. Die Laserquelle hat eine Spotgröße von 100-400 Nanometern, die eine hochpräzise Bildgebung ermöglicht und die Genauigkeit der Herstellung erhöht. Zusätzlich werden die Photolackschichten mit erhöhter Auflösung und durch Kontrolle formuliert, wodurch die mit herkömmlichen Photolackprozessen beobachteten verzerrten Fotografien eliminiert werden. Die Effizienz der Maschine wird durch ihre mehrschichtige Verarbeitungsfunktion weiter verbessert. Dies ermöglicht es ihm, mehrere Schritte des Ätzprozesses nacheinander mit einer einzigen Belichtung durchzuführen; die Photolackschichten sind so dick ausgebildet, daß sie eine entsprechende Lichtbelichtung ermöglichen. Die Mehrfachschichten ermöglichen es dem Werkzeug auch, unerwünschte Teile der Maskierungsschicht und der lichtempfindlichen Schicht gleichzeitig zu entfernen. Die hohe Integration von Photolackschichten mit dem fokussierten Laserstrahl ermöglicht auch die Lichtablation, ein Verfahren, das es ermöglicht, die Schaltung strukturell mit dem darunterliegenden Substrat zu integrieren. Durch dieses Verfahren kann das Substrat mit hoher Kontrolle vorpoliert werden, wodurch nach dem Ätzen keine weitere Politur mehr erforderlich ist. Insgesamt bietet TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 Photoresist Asset eine äußerst genaue und effiziente Möglichkeit, integrierte Schaltungen mit engen Toleranzen zu fertigen, die ein hochpräzises Schaltungsdesign und eine hohe Fertigung ermöglichen. Die Photolackschichten werden mit der richtigen Auflösungsbilanz und durch Steuerung formuliert und der Laserfluss ermöglicht eine ganzschrittige Verarbeitung mit einer einzigen Belichtung. Darüber hinaus macht die Lichtablation den Prozess effizienter und kostengünstiger und bietet gleichzeitig eine hohe Genauigkeit.