Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165439 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Anlage, die die präzise Lithographie komplexer Strukturen und selektiver Ätzprozesse ermöglicht. Es wurde entwickelt, um das Auftreten von Defekten im Photoresist-Prozess zu reduzieren und eine hohe Ausbeute und fehlerfreie Oberflächen zu gewährleisten. TEL Clean Track ACT 8 verwendet ein Rasterelektronenmikroskop (SEM), um ein ultrafinites Muster auf einem Wafer zu erzeugen, das Dithering und hochauflösende Bildgebung verwendet. Das System ist mit einer Vielzahl von Photoresist-Lösungen kompatibel, einschließlich Standard-Positiv- und Negativtypen sowie neuen, robusteren Materialien. Die Kombination von verbesserter Photolackauflösung mit präzisen Lithographie-Herstellungsprozessen führt zu einem hochpräzisen Produkt. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 enthält auch eine Reihe von spezialisierten Funktionen, die entwickelt wurden, um qualitativ hochwertige Produkte mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und minimalem Fehlerrisiko zu gewährleisten. Dazu gehört ein spezieller beheizter Waferhalter, der den Wafer mit einer fortschrittlichen Wärmeverteilungseinheit gleichmäßig erwärmt. Die Maschine umfasst auch einen dreistufigen Vakuumentgasungsprozess zum Entfernen von Lufttaschen aus dem Fotolack. Darüber hinaus ist Clean Track ACT 8 mit automatisierten Inspektionstechniken ausgestattet, die einen Wafer auf Fehler scannen. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, potenziell problematische Bereiche schnell zu identifizieren und so schnelle Korrekturmaßnahmen zu ermöglichen. Alle fehlerfreien Bereiche werden dann optisch überprüft, um die erforderliche Genauigkeit und Qualität zu gewährleisten. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist ein leistungsstarkes Photolackwerkzeug, das die präzise Lithographie komplexer Designs mit minimierten Fehlerraten ermöglicht. Es ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, mögliche Probleme schnell und genau zu identifizieren und gleichzeitig ein hohes Maß an Genauigkeit und Einheitlichkeit zu gewährleisten. Das Ergebnis ist eine fehlerfreie Oberfläche mit ausgezeichneter Konsistenz, die einen effizienten und zuverlässigen Herstellungsprozess ermöglicht.