Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9182601 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9182601
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
(3) Coaters / (3) Developers, 8"
General system configuration:
Left to right
Carrier type: Notch type, (25) Slots
System power rating: AC 208V, 3-Phase for system, 173A (Max)
Loading configuration:
(4) Loaders
Uni-cassette
Software version: 3.04.130
(3) Main controllers
Main system details:
Main frame with system controller
Carrier station
Type: Normal cassette type
Cassette: (25) Slots
Coater unit details (2-1, 2-2 module):
(8) Dispense nozzles
with temperature controlled lines for etch unit
(16) RRC Pumps
PR Suck-back valve: (16) AMC Suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liter 2-tank buffer tank system
Programmable side rinse
PR Supply (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8): (8)Bottles (1-Bottle / 2-Nozzle)
Solvent Supply
CCSS Supply
E.B.R Flow system: CCD Type
Drain type: Direct drain system (Including a pump)
TCT Unit details (3-2 Module):
(3) Dispense nozzles with temperature controlled
Resist 1, 2 RRC pump (F-T201-1)
Resist 3 RDS pump (R GEN tm-01)
PR Suck-back valve: (3) AMC Suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liter 2-tank buffer tank system
Programmable side rinse
PR Supply (1, 2, 3): (3) Bottles (1-Bottle/1-Nozzle)
Solvent supply: CCSS Supply
E.B.R Flow system: CCD Type
Drain type: Direct drain system (Including a pump)
Developer unit details (3-1, 3-2, 3-4 Module):
(1) LD Nozzle for each unit
(3) Dispense nozzles with temperature controlled
(1) Stream nozzle for DI rinse
2-Point for back side rinse on each unit
Developer system: (3) 3-Liter 2-tank buffer tank system
Developer supply: CCSS Supply
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON Type (S206)
(2) Adhesion units details:
HMDS Tank with float sensor in system
HMDS Supply: Local canister supply
(3) Precision hot plate stations (PHP)
(6) Precision chilling hot plate stations (PCH)
(2) Cup washer holders (CWH)
(4) High chill plate stations (HCP)
(1) Chill plate station (CPL)
(2) High temp hot plate stations (HHP)
(5) Low temp hot plate stations (LHP)
(2) Transition stages (TRS)
(1) Transition chill plate (TCP)
Chemical cabinet #1: PR Bottle & 2-1, 2-2 COT pump
HMDS Buffer tank assembly
Solvent buffer tank
Solvent filter assembly
Developer buffer tank & developer / DI filter assembly
Chemical cabinet #2: HMDS Canister tank
Temperature & humidity controller:
Type: SHINWA ESA-8Series (TEL OEM)
Temperature control unit (TCU):
Type: TEL OEM
AC Power box:
AC 200/220V
Full load current: 173A
System configuration:
(1) UNC: Uni-cassette stage
(1) TCT: TARC Process station
(2) ADH: Adhesion process stations
(3) PHP: Precision hot plate stations
(6) PCH: Precision chilling hot plate stations
(2) CWH: Cup washer holders
(2) SHU: Shuttles
(2) COT: Coat process stations
(3) DEV: Develop process stations
(4) HCP: High speed chill plate stations
(1)CPL: Chill plate station
(2) HHP: High temperature hot plate stations
(5) LHP: Low temperature hot plate stations
(2) TRS: Transition stages
(1) TCP: Transition chill plate
Other system details:
In-Line
CSB, PRB1, PRB2, IFB
Power box, T&H Controller 1
Chemical box 1, 2
Thermo-controller 1
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für LCD-Panel-Produktionslinien entwickelt wurde. Photoresistsysteme verwenden ultraviolettes Licht (UV), um Photoresistmaterial zu belichten, das auf die Oberfläche eines Substrats beschichtet ist, in der Regel Glas. Wird das Substrat mit Licht entsprechender Wellenlänge beaufschlagt, zerfällt der Resist, so daß ein Muster belichteter und unbelichteter Bereiche verbleibt. Diese Photoresist-Technologie wird in LCD-Panel-Produktionslinien verwendet, um ein ultrafeines Muster von Elektroden auf dem LCD-Panel zu erstellen. TEL Clean Track ACT 8 bietet zuverlässige Musterbildung für LCD-Produktionslinien. Es handelt sich um ein modulares System bestehend aus einer Belichtungseinheit, einer Fokus- und Ausrichteinheit, einem Substratstufenmodul, einer Mess- und Steuereinheit und einer Stützsteuerungsmaschine. Die Belichtungseinheit verwendet eine leistungsstarke UV-LED-Lichtquelle und eine Vielzahl von Optik- und Galvanometern, um eine überlegene Belichtungsstabilität mit hochpräziser Ausrichtungs- und Aberrationssteuerung zu gewährleisten. Das Fokus- und Ausrichtwerkzeug ermöglicht eine präzise und wiederholbare Musterpositionierung, die eine genaue und präzise Elektrodenmusterbildung ermöglicht. Das Substratstufenmodul bietet präzise Bewegungsgeschwindigkeit und Präzision und ermöglicht eine extrem präzise Musterbildung. Die Mess- und Steuereinheit passt die Belichtungspegel jeder Belichtungseinheit automatisch an und steuert sie. Das unterstützende Steuerelement synchronisiert die Hardwarekomponenten und bietet eine benutzerfreundliche Schnittstelle, mit der Benutzer die Belichtungswerte jeder Expositionseinheit auf der Produktionslinie überwachen, anpassen und analysieren können. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 wurde entwickelt, um die Produktivität zu maximieren und gleichzeitig eine überlegene Resistdefinition und Mustergenauigkeit zu bieten. Es bietet hochauflösende Muster mit einer minimalen Linienbreite von 0,1 Mikron und einer Gleichmäßigkeit von ± 2%. Es bietet auch schnelle Belichtungszeiten, um die hohen Anforderungen der LCD-Produktionslinien zu erfüllen. Mit seiner überlegenen Belichtungsgleichmäßigkeit und hoher Präzision ist Clean Track ACT 8 eine ausgezeichnete Wahl für LCD-Panel-Produktionslinien.
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