Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 zu verkaufen

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ID: 9190707
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Resist coater / Developer, 8" Multi block Wafer type: Notch In-line with stepper type: NIKON B12 Wafer flow direction: Right to left Spinner unit configuration: 2C Function of coater heads: (4) Nozzles / Coater With individual pump per nozzle / Prewet nozzle Main body frames: (3) Blocks Indexer Coater / Developer Interface SMIF: (3) Indexers Robot arm: Ceramic / Aluminium LHP: 250 deg (+/- 2deg) PCHP: 150 deg (+/- 2deg) CPL: 22 deg (+/- 2deg) Cooling plate temperature control system: PID Controller Spin developer head: 4D Functions for developer coater heads: (2) Developer lines with H Nozzle / DIW Center rinsing Developer dispense: N2 Pressure DIW Rinse with flow meter: Top-side Back-side Programmable exhaust damper (Screen std) Filter for developer and DIW (Pall DFA1FTS 64M, 0.1um): CHUV2LOP1 UPE Filter: 100 nm Developer temperature control system: ETU Controller Chemical cabinet Drain pans With leak sensors (Main body and DD cabinets) Double containment for chemical lines: DD Cabinet to main body (EBR / Cup rinse) TEL Tower lamp Power requirements: 220 V, 3 Phase, 4 Wire, 50-60 Hz 2000 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für präzise, hohe Genauigkeit, Nanomuster mit überlegener Leistung zu traditionellen lithographischen Techniken. Das Photoresist-System bietet eine schlanke Design- und Betriebsplattform, die die konsistentesten Ergebnisse in kürzester Zeit gewährleistet. Die Einheit arbeitet, indem sie zuerst das Substratmaterial mit Licht belichtet (mit einer Belichtungsmaschine) und dann einen Photolack auf das Substrat aufbringt. Der Fotolack wirkt als Maskierungsschicht, wodurch ein Teil des Lichts in Bereichen, auf denen das Muster gewünscht ist, an das Substratmaterial gelangt. Das Muster wird durch Steuerung der Belichtungszeit, Intensität und des Winkels der Lichtquelle sowie der Zusammensetzung des Photolacks erreicht. TEL Clean Track ACT 8 ist mit einem robusten Satz von Funktionen für den Betrieb, einschließlich eines Auto-Fokus-Werkzeug, um genaue Lithographie-Anforderungen jedes Mal zu gewährleisten, eine geschlossene Kammer mit einer pneumatischen Tür, programmierbare Einstellungen und viele andere Funktionen. Die erweiterten Funktionen dieser Anlage ermöglichen die Strukturierung in einer Reihe von Schichten/Schichten, vom Mikron bis zum Sub-Mikron-Bereich, wobei eine Mindestfunktionsgröße von 10 nm erreicht werden kann. Dieses Modell eignet sich ideal für die Herstellung von Chips, die Ausrichtung von Halbleiterbauelementen, mikroelektromechanische Systeme (MEMs), Display-Technologie usw. Die Photolackausrüstung hat zwei Hauptvorteile. Die erste ist eine Kostensenkung, da anstelle mehrerer Lithographiemodule nur ein einziges Photolacksystem verwendet werden muss. Der zweite ist ein verbesserter Durchsatz, da Muster schnell ohne manuelle Störungen durch den Bediener gezogen werden können. Darüber hinaus kann die Einheit für die spezifischen Anwendungsanforderungen optimiert werden, um in kürzerer Zeit präzisere Ergebnisse zu erzielen. Beispiele für einstellbare Merkmale sind die chemische Zusammensetzung des Photolacks, die Schichtdicke des Substratmaterials und der Musterschrumpfungskoeffizient. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 Photoresist-Maschine bietet eine ideale Plattform für datengesteuerte Entwicklung und Musterung von nanoskaligen elektronischen Geräten. Das Tool führt zu verbesserten Ergebnissen mit kürzerer Umdrehungszeit, was sowohl Kosteneffizienz als auch verbesserte Technologieprozesse liefert. Es ist die perfekte Lösung für Kunden, die nach einer zuverlässigen und kostengünstigen Plattform suchen, um fortschrittliche High-Tech-Anwendungen zu entwickeln.
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