Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9190707
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Resist coater / Developer, 8"
Multi block
Wafer type: Notch
In-line with stepper type: NIKON B12
Wafer flow direction: Right to left
Spinner unit configuration: 2C
Function of coater heads: (4) Nozzles / Coater
With individual pump per nozzle / Prewet nozzle
Main body frames: (3) Blocks
Indexer
Coater / Developer
Interface
SMIF: (3) Indexers
Robot arm: Ceramic / Aluminium
LHP: 250 deg (+/- 2deg)
PCHP: 150 deg (+/- 2deg)
CPL: 22 deg (+/- 2deg)
Cooling plate temperature control system: PID Controller
Spin developer head: 4D
Functions for developer coater heads:
(2) Developer lines with H Nozzle / DIW Center rinsing
Developer dispense: N2 Pressure
DIW Rinse with flow meter:
Top-side
Back-side
Programmable exhaust damper (Screen std)
Filter for developer and DIW (Pall DFA1FTS 64M, 0.1um):
CHUV2LOP1
UPE Filter: 100 nm
Developer temperature control system: ETU Controller
Chemical cabinet
Drain pans
With leak sensors (Main body and DD cabinets)
Double containment for chemical lines: DD Cabinet to main body (EBR / Cup rinse)
TEL Tower lamp
Power requirements: 220 V, 3 Phase, 4 Wire, 50-60 Hz
2000 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für präzise, hohe Genauigkeit, Nanomuster mit überlegener Leistung zu traditionellen lithographischen Techniken. Das Photoresist-System bietet eine schlanke Design- und Betriebsplattform, die die konsistentesten Ergebnisse in kürzester Zeit gewährleistet. Die Einheit arbeitet, indem sie zuerst das Substratmaterial mit Licht belichtet (mit einer Belichtungsmaschine) und dann einen Photolack auf das Substrat aufbringt. Der Fotolack wirkt als Maskierungsschicht, wodurch ein Teil des Lichts in Bereichen, auf denen das Muster gewünscht ist, an das Substratmaterial gelangt. Das Muster wird durch Steuerung der Belichtungszeit, Intensität und des Winkels der Lichtquelle sowie der Zusammensetzung des Photolacks erreicht. TEL Clean Track ACT 8 ist mit einem robusten Satz von Funktionen für den Betrieb, einschließlich eines Auto-Fokus-Werkzeug, um genaue Lithographie-Anforderungen jedes Mal zu gewährleisten, eine geschlossene Kammer mit einer pneumatischen Tür, programmierbare Einstellungen und viele andere Funktionen. Die erweiterten Funktionen dieser Anlage ermöglichen die Strukturierung in einer Reihe von Schichten/Schichten, vom Mikron bis zum Sub-Mikron-Bereich, wobei eine Mindestfunktionsgröße von 10 nm erreicht werden kann. Dieses Modell eignet sich ideal für die Herstellung von Chips, die Ausrichtung von Halbleiterbauelementen, mikroelektromechanische Systeme (MEMs), Display-Technologie usw. Die Photolackausrüstung hat zwei Hauptvorteile. Die erste ist eine Kostensenkung, da anstelle mehrerer Lithographiemodule nur ein einziges Photolacksystem verwendet werden muss. Der zweite ist ein verbesserter Durchsatz, da Muster schnell ohne manuelle Störungen durch den Bediener gezogen werden können. Darüber hinaus kann die Einheit für die spezifischen Anwendungsanforderungen optimiert werden, um in kürzerer Zeit präzisere Ergebnisse zu erzielen. Beispiele für einstellbare Merkmale sind die chemische Zusammensetzung des Photolacks, die Schichtdicke des Substratmaterials und der Musterschrumpfungskoeffizient. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 Photoresist-Maschine bietet eine ideale Plattform für datengesteuerte Entwicklung und Musterung von nanoskaligen elektronischen Geräten. Das Tool führt zu verbesserten Ergebnissen mit kürzerer Umdrehungszeit, was sowohl Kosteneffizienz als auch verbesserte Technologieprozesse liefert. Es ist die perfekte Lösung für Kunden, die nach einer zuverlässigen und kostengünstigen Plattform suchen, um fortschrittliche High-Tech-Anwendungen zu entwickeln.
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