Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9191941 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die hervorragende Reinraumleistung und -durchsatz bietet. Das System nutzt eine automatische Gleisanlage, die einen aktiven Reinigungsprozess und eine chemikalienfreie Lagerung und den Transport von Photoresist-Wafern kombiniert. Eine optimierte Resistversorgungsmaschine sorgt zudem für hohe Produktivität, hohe Gleichmäßigkeit und minimale Wafer-Verschmutzung. TEL Clean Track ACT 8 enthält ein Suszeptor-Werkzeug, das der Partikelabscheidung widersteht. Das Asset ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Ein spezialisiertes Beschichtungsverfahren wird durchgeführt, um eine überlegene Haftung von Photolack auf der Waferoberfläche zu gewährleisten, die eine vollständige Abdeckung der gesamten Oberfläche und eine gleichmäßige Filmdicke garantiert. Ein automatisiertes Modell erkennt die Größe des Wafers und identifiziert den angegebenen Resist-Typ. Die modulare Ausstattung verfügt zudem über eine flexible Kapazität, die je nach aktuellen Anforderungen und Wafergröße fliegend angepasst werden kann. Das proprietäre Resistsystem von TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 bringt mehrere Vorteile. Die Reinigungsflüssigkeit ist eine wässrige Lösung, die das Einbringen organischer Substanzen minimiert und bei Bedarf innerhalb der Anlage erzeugt wird. Dadurch wird ein weiterer Schutz vor Kontamination gewährleistet. Eine vorprogrammierte Rate des Flüssigkeitsverbrauchs optimiert die Maschine für die Hochgeschwindigkeitsbearbeitung. Das Widerstandsversorgungswerkzeug bleibt hermetisch abgedichtet, um den freiliegenden Widerstand jederzeit vor Verschmutzung zu schützen. Darüber hinaus ist Clean Track ACT 8 mit mehreren erweiterten Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Eine eingebaute Niederdruck-Resistsprühanlage reduziert das Risiko einer Exposition gegenüber Partikeln in der Luft und schützt den Substratwafer vor möglichen Kontaminationen. Das Modell ist auch für überlegene Leistung in Reinraumumgebung konstruiert und verfügt über einen engeren Betriebsbereich von 0,2 bis 0,6 bar. Das einzigartige Design von TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ermöglicht einen verbesserten Durchsatz und eine minimale Waferkontamination, wodurch hohe Erträge für eine Vielzahl von Substraten wie Silizium, Keramik und Quarz erzielt werden. Flexible Kapazitäten und automatisierte Prozesse machen TEL Clean Track ACT 8 zu einer kostengünstigen Lösung für Reinraumbedienungen, die hohe Leistung von ihren Photoresist-Geräten verlangen.