Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198616 zu verkaufen
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ID: 9198616
Wafergröße: 8"
(3) Coater / (4) Developer system, 8"
Right to left wafer flow
(4) UNCs
IFB
DUV
Open cassette
Interface for ASML PAS 5500
Dual block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die ein maskenloses Belichtungssystem verwendet, um qualitativ hochwertige Lithographiemuster zu erzeugen. Es verwendet einen Mehrfachstrahl aus Laserlicht, um eine positive oder negative Photoresistschicht auf einer Waferoberfläche zu bestrahlen. Das Laserlicht wird durch Flüssigkristallverschlüsse moduliert, so dass die strukturierende Optoelektronik genau das gewünschte Muster bildet. Die Einheit umfasst auch eine Quarzsubstratstufe, die ohne Benutzereingriff automatisch bewegt werden kann, um den Belichtungsbereich während der Strukturierung einzustellen. Die Laserquelle hat einen geringen Stromverbrauch und ist ozonfrei. Die Maschine wurde entwickelt, um hochauflösende Muster mit präziser Ausrichtung und Handhabung verschiedener Photoresists zu erzeugen. Es unterstützt Reinraumbetrieb mit geringer Partikelverschmutzung und minimaler statischer Stromerzeugung. Das Werkzeug ist hocheffizient und kostengünstig, erspart teure Maskenherstellung und reduziert die langwierigen Ätz- und Reinigungsprozessschritte. Das Asset ermöglicht es auch, Photoresists von negativ nach positiv zu belichten, um Mehrschichtmuster ohne zusätzliche Prozessschritte zu erstellen. Für jeden Fotolack ist das Modell auch darauf ausgelegt, Prozessbedingungen und Prozesseinstellungen zu optimieren, die an verschiedene Prozessanforderungen angepasst werden können. Das Gerät kann bis zu 8 Rezepte im Speicher speichern und Belichtungszeit und Laserleistung je nach Prozesseinstellung anpassen. Darüber hinaus verfügt das System auch über einen Echtzeitmonitor, so dass sich Benutzer leicht auf veränderte Umgebungsbedingungen einstellen und den Fortschritt der Belichtungsmusterung verfolgen können. Diese Photoresist-Einheit bietet eine hervorragende Auflösung, Ausrichtung und Präzisionsmuster von Photoresists. Der geringe Stromverbrauch und die ozonfreie Laserquelle machen ihn für Reinraumanwendungen geeignet, während seine Kosteneffizienz und Zeitersparnis ihn zu einem wertvollen Werkzeug für Forscher und Hersteller machen. Darüber hinaus ist der eingebaute Monitor und die Rezeptspeicherung der Maschine eine äußerst effiziente und zuverlässige Lösung für die Herstellung von lithographischen Fotomasken.
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