Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198617 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für Abscheidungsprozesse, die eine erhöhte Präzision, Auflösung und Sauberkeit erfordern. Es ist mit fortschrittlichen Funktionen und Technologien für Lithographie-Prozesse konzipiert und für Prozesse optimiert, bei denen hohe Temperaturen und/oder hohe Resistphysik beteiligt sind. Es ist in der Lage, verbesserte Steuerbarkeit und Genauigkeit für Abscheidungsmerkmale mit minimalem physischen Kontakt zu liefern. TEL Clean Track ACT 8 verwendet fortschrittliche Photoresist-Technologie, um eine präzise Atomschichtabscheidung während Prozessen für bestimmte Zyklen zu ermöglichen. Diese Technologie bietet eine genaue Kontrolle der Funktionen mit minimalem physikalischen Kontakt, die eine effiziente Lithographie-Prozess-Produktion ermöglicht. Das System umfasst Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Multi-Stage Ashing (MSA) und LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) Technologien, um eine präzise Atomschichtabscheidung zu ermöglichen. Das Gerät umfasst auch hochresistente physikalische Technologie für Lithographieverfahren, die hohe Temperaturen erfordern. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist mit einer einzigartigen Kammerstruktur und integrierten Roboterarmen konzipiert, um optimale Ergebnisse bei minimalem Körperkontakt zu gewährleisten. Diese Technologie ermöglicht auch genaue Masken mit höherer Auflösung als herkömmliche Photolithographie-Prozesse. Die integrierten Roboterarme sind für mehr Flexibilität und eine präzise Steuerung der Abscheideprozesse ausgelegt. Clean Track ACT 8 ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten zu handhaben, einschließlich herkömmlicher Edelstahl-, Aluminium- und Quarzmaterialien. Die Maschine ist auch in der Lage, dünne und dicke Filme bei niedriger Temperatur zu beschichten und zu wafern. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, sowohl chargenweise als auch kontinuierlich zu arbeiten. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 liefert qualitativ hochwertige Abscheidungsergebnisse mit minimalem Abfall und minimalem physischen Kontakt. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Technologien ist es in der Lage, präzise Masken mit höherer Auflösung als herkömmliche Photolithographie-Prozesse zu produzieren. Es ist ein idealer Vorteil für Abscheideprozesse, die erhöhte Präzision, Auflösung und Sauberkeit erfordern.