Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198618 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198618
Wafergröße: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8" IFB DUV Single block Right to left wafer flow (4) UNCs Open cassette Interface for ASML PAS 5500.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung, die mit fortschrittlicher Technologie eine breite Palette von Vorteilen für die Produktion von High-End-Mikroelektronikgeräten bietet. Dieses System bietet eine bessere Prozesskontrolle und Genauigkeit, was zu erhöhter Produktivität und besserer Qualität führt. Sie wird typischerweise zur Herstellung von Dünnschichttransistoren und integrierten Schaltungen verwendet. TEL Clean Track ACT 8 besteht aus zwei Schlüsselkomponenten: einer patentierten Elektronenstrahl-Belichtungsquelle und einem proprietären softwaregesteuerten präzisen mehrachsigen Belichtungsmechanismus. Die Elektronenstrahl-Belichtungsquelle erzeugt mit einer Elektronenkanone ein hochauflösendes Maske-zu-Bild-Muster, das auf Photoresistmaterial übertragen wird. Die patentierte Belichtungsquelle ist darauf ausgelegt, das Bild durch Minimierung des Belichtungsenergieverlustes durch das bildgebende Medium exakt auf das Fotolackmaterial zu übertragen. Dies führt zu einer verbesserten Bildauflösung und einer präzisen Bildregistrierung. Die zweite Komponente der Maschine ist der proprietäre softwaregesteuerte präzise mehrachsige Belichtungsmechanismus, der dafür verantwortlich ist, das Maske-zu-Bild-Muster mit extrem genauer Punktgenauigkeit zu liefern. Dieses Bauteil ist mit einem Titananhänger ausgestattet, der eine lineare Bewegungssteuerung in drei Achsen mit einer Genauigkeit von weniger als 0,5 Mikrometern ermöglicht. Dadurch kann eine Fotoausrichtung mit hoher Genauigkeit erfolgen, was zu einem hochauflösenden Bild mit ausgezeichneter Registrierung führt. Darüber hinaus kann TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 Werkzeug mit einer Reihe von verschiedenen Add-on-Funktionen wie einem Wafer-Pre-Bake-Modul, Temperaturkompensation Asset, hochpräzise Verschlussmodell und mehr ausgestattet werden. Auf diese Weise kann die Ausrüstung an spezifische Produktionsanforderungen angepasst werden. Clean Track ACT 8 Photoresist System verfügt über modernste Technologie, die eine außergewöhnlich hohe Genauigkeit und Geschwindigkeit in der Produktion von mikroelektronischen Geräten bietet. Diese Einheit ermöglicht schnellere Produktionszeiten, hochwertigere Bilder und erhöhte Produktivität bei der Herstellung von Dünnschichttransistoren und integrierten Schaltungen. Es ist eine ideale Maschine für die Herstellung von extrem genauen und fein detaillierten mikroelektronischen Geräten.
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