Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9235802 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photolackausrüstung, die eine kostengünstige und verbesserte Photolackplattform für die Halbleiterindustrie bietet. Es verwendet einen kombinierten Scanner und eine Auto Mask Chuck (AMC) -Plattform, um Scan-to-Mask-Registrierungs- und Belichtungsaufgaben auf einer Plattform durchzuführen. Diese Plattform wurde entwickelt, um die Betriebskosten zu reduzieren, die Leistung des Photoresistsystems zu verbessern und den Durchsatz zu verbessern, indem die Zeit für die Bearbeitung eines Wafers reduziert wird. TEL Clean Track ACT 8 verwendet innovative Technologie, um die Genauigkeit und den Durchsatz von Belichtungsprozessen zu verbessern. Die Auto Mask Chucks (AMC), die zur Sicherung der Masken verwendet werden, verfügen über hochstabile Mikrovorsprünge, um sicherzustellen, dass die Masken korrekt und genau ausgerichtet sind. Der eingebettete Scanner enthält auch Autofokus und Scangeschwindigkeit, um den Durchsatz durch beschleunigte Scanvorgänge zu verbessern. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 verfügt über eine große Kapazität Topf Montage. Er hält bis zu 12 Masken oder 3 Scheiben und ist in zwei Kammern getrennt. Die erste Kammer nimmt Masken zur Belichtung auf und die zweite reduziert die nicht wiederkehrende Dosiervorspannung. Es bietet auch überlegene Leistung durch schnellen Austausch der Kammern zwischen Belichtungsbetrieb und Dosisverdünnung, wodurch die Notwendigkeit der Durchsatzreduzierung bei der Neukalibrierung entfällt. Clean Track ACT 8 verfügt über eine 5 Megawatt gepulste Lichtquelle (PLS) zur Maskenbelichtung. Es bietet mehrere Vorteile wie eine niedrige Hintergrundquelle für reduzierte Filmaufnahme und eine integrierte Konstruktion für hohe Stabilität. Darüber hinaus beinhaltet es eine aktive Prozessüberwachung, um eine konstante Lichtleistung über die Zeit aufrechtzuerhalten und eine genaue Belichtung zu gewährleisten. Abschließend wurde TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 mit innovativen Technologien entwickelt, um den Durchsatz und die Wirtschaftlichkeit von Photolacksystemen zu erhöhen. Es enthält einen kombinierten Scanner und Auto-Maske Futter, sowie eine große Kapazität Topf-Montage und ein 5 Megawatt PLS für Maskenbelichtung. Diese Eigenschaften ermöglichen es der Maschine, Wafer präzise und schnell zu verarbeiten und die Kosten und die Leistung von Photolackprozessen in der Halbleiterindustrie zu verbessern.