Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9237166 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die von TEL, einem führenden Hersteller integrierter Schaltungen (IC), entwickelt wurde. TEL Clean Track ACT 8 verfügt über ein Vier-Punkte-Kontaktsystem und ein leistungsstarkes, winkelarmes Reinigungsverfahren. Um den höchsten Standard der Photolithographie-Fertigungsprodukte zu halten, hilft TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8, eine saubere Substratoberfläche zu erhalten und gleichzeitig ein stabiles und zuverlässiges Wachstum zu gewährleisten. Clean Track ACT 8 Einheit ist entworfen, um die Photolithographie Schichten von Mikroprozessoren und anderen IC-Sensoren zu verbessern, durch die Bereitstellung hochgenaue, hochauflösende Musterung. Dazu verwendet die Maschine zwei Hauptkomponenten: einen optischen Stepper und eine UV-Lichtquelle. Der optische Stepper besteht aus zwei Spiegeln und Linsen, die das gewünschte Muster für den auf dem Substrat abzuscheidenden Photolack erzeugen. Die UV-Lichtquelle sorgt für eine gleichmäßige Beleuchtung des Substrats. Das Werkzeug sorgt für eine winkelarme Reinigung, die sicherstellt, dass Oberflächenverunreinigungen die photolithographischen Schichten nicht stören. Es kann die Oberfläche auch im kritischsten Stadium reinigen, wenn die Musterschichten gebildet werden. Das Reinigungsverfahren mit niedrigem Winkel von TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 hilft, Partikel, Adsorbate und andere Materialien zu entfernen, die sonst zu Defekten führen könnten. Der Vier-Punkte-Kontakt von TEL Clean Track ACT 8 richtet das Substrat an den Präzisionsschlitzen des optischen Steppers aus. Das Modell verwendet eine Präzisionsausrichtungseinrichtung, um das Substrat exakt auf die sich bewegenden optischen Komponenten auszurichten, um den Fotolackfilm genau zu strukturieren. Dadurch wird sichergestellt, daß die Folie gleichmäßig und radial auf das Substrat aufgebracht wird. Das Prozessüberwachungs- und Kontrollsystem von TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 überwacht kontinuierlich alle Betriebsebenen und Parameter und garantiert so eine konstante und wiederholbare Widerstandsdicke. Dies hilft, verbesserte Ausbeute und fehlerfreie Fertigungsergebnisse zu gewährleisten. Clean Track ACT 8 ist eine leistungsstarke Methode der Photoresist-Abscheidung für die IC-Herstellung. Es hilft, die Sauberkeit des Substrats aufrechtzuerhalten und ein stabiles und zuverlässiges Widerstandswachstum zu gewährleisten und gleichzeitig eine hochauflösende Strukturierung mit minimalen Defekten zu gewährleisten.