Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9241869 zu verkaufen

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TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
Verkauft
ID: 9241869
Wafergröße: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8" I-Line Single block system Wafer flow: Left to right Process block: Single block system Block 1(C/S Blk): CS Add on board missing Main controller: ACT #2 Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive Touch screen Pincette Block 2(P/S Blk) (2) Spinner I/O boards missing (2) Coater units (2-1, 2-2) Direct drain type (2) PR Nozzle assemblies (4) Back rinses (2) EBR Nozzles (2) Out cup assemblies (2) Nozzle changer motors (2) Spin motors & drivers (2) Developer units: (2-3, 2-4) (2) Spinner I/O boards missing (4) Back rinses (2) H Nozzle assemblies (2) Out cup assemblies (2) Spin motors & drivers Oven unit: (7) LHP/ Low temperature hot plates (4) CPL/ Chill plates TCP (2) TRS / Transfer stations (2) ADH/ Adhesion process stations PRA / Process block robotics arm: Missing part: Pincette TH Drive PRA Motor Missing parts: (4) ADH Inject valves (10) Air valve (AMDZ1-X61) (2) DEV Drine bottles Power cable THC: T&H-NRE-2-A-00 Power box: PB2-U200-03-DV2 TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist ein Photoresist Equipment von TEL Ltd. (TOKYO ELECTRON). Es ist für den Einsatz in Halbleiter- und anderen verwandten Industrien zum Ätzen oder Beschichten von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu acht Zoll ausgelegt. Es verwendet ein Laser-direktes Bildgebungssystem, um genaue und präzise Bilder zu photoresist beschichteten Wafern zu liefern. Die Einheit besteht aus drei wesentlichen Komponenten: Scankopf, Kontrollkarte und aktive Kammer. Der Abtastkopf verwendet Laserlicht aus zwei Lasersätzen, um die Abbildung der photoresistbeschichteten Wafer durchzuführen. Die Steuerkarte ermöglicht es dem Scankopf, einen Strahl mit korrektem Abstand und Auflösung zu erzeugen. Es enthält auch digitale Leiterplatten und Empfänger, die in Echtzeit die Position des Strahls erfassen, wodurch bei Bedarf die Auflösung eingestellt wird. Die aktive Kammer erleichtert das Be- und Entladen von Wafern aus der Maschine sowie die Aktivierung des Photolacks. Das Tool verwendet ein neuartiges Photoresist-Asset, das als Dual State Resist (DSR) -Funktion bekannt ist. Mit dieser Funktion kann der Benutzer zwei verschiedene Fotolacktypen auf denselben Wafer anwenden und gleichzeitig die KE-Breite zwischen den beiden Anwendungen anpassen. Um eine präzise und zuverlässige Abbildung der mit Photoresist beschichteten Wafer zu ermöglichen, verwendet TEL ACT 8 mehrere fortschrittliche Technologiefunktionen wie fortschrittliche optische Leistungsabstimmung, Laserwellenlängenflexibilität, mehrstufige Mittelchiralität und Feldabstimmung. Darüber hinaus verfügt der Photolack über eine hohe Empfindlichkeit und eine ausgezeichnete Impedanzsteuerung, um ein genaues Ergebnis zu erzielen, auch wenn sich die Intensität des Laserstrahls ändert. Das Modell verfügt auch über eine umfangreiche automatische Steuerung, die es dem Benutzer ermöglicht, die geprüften Parametersätze über die grafische Benutzeroberfläche per Knopfdruck einzureichen. Dieses System verbindet dann alle relevanten Geräte und diktiert die Prozessparameter mit völliger Genauigkeit. Ein weiterer wichtiger Aspekt des Geräts ist seine sichere und effiziente SEH-Betriebssoftware. Auf diese Software kann über einen PC zugegriffen werden, so dass der Benutzer mit der Maschine oder anderen angeschlossenen Geräten kommunizieren kann, Daten für den Werkzeugrückruf speichert und das Asset fernbedient. Die SEH-Betriebssoftware ermöglicht es dem Anwender auch, alle innerhalb des Modells stattfindenden Aktivitäten in Echtzeit zu überwachen. Schließlich bietet TOKYO ELECTRON ACT 8 eine benutzerfreundliche Umgebung und eine automatische Wartungsfunktion, die es seinen Benutzern ermöglicht, die Produktivität zu steigern und die Kosten in Bezug auf Arbeit und Energie zu senken.
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