Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9245118 zu verkaufen
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ID: 9245118
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
(4) Coater / (4) Developer system, 8"
(2) Chemical cabinets: Solvent and developer
(2) SMC Thermo controllers: HMDS, PR
YEST YIB-TP23 T and H Controller
AC Power box
MFC: 4-Ports
Right to left
Wafer type: Notch, DUV type
DUV Type
25-Slots
Loading configuration: (4) Loader uni-cassettes
Carrier station:
Type: Normal uni-cassette
(4) Cassette stages
Pick-up cassette
Uni-cassette system
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4 Module):
(4) Dispense nozzles
With temperature controlled lines
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems
PR Such-back valve type: AMC Suck-back valve
Programmable side rinse
Direct drain
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Module):
H Nozzle
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse / Unit
Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems
Developer temperature control system
Direct drain
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Interface type: ASML
(3) High temperature hot plates
(15) Low temp hot plates
(10) Chill plates (CPL)
(4) Precision Hot Plate (PHP) process station
(3) TRS Modules
TCP Module
Wafer Edge Exposure (WEE) module
(2) TEL / TOKYO ELECTRON Temperature control units
Main controller missing
Power: AC 208 V, 3-Phase
2002 vintage.
TELEFON / ELEKTRON VON TOKIO Sauberes Spuren-GESETZ 8 ist ein ganzer, photowidersetzt sich Ausrüstung hat vorgehabt, Präzisionssteindruckverfahrenteilverarbeitungsfähigkeiten mit der hohen Produktivität, hervorragenden Bedeckungsgenauigkeit und ausgezeichneten Wiederholbarkeit zu versorgen. Das System verfügt über ein SIMOX-Prozessmodul zur Trockenentwicklung von Resistschichten sowie modulare Ergänzungen für groß angelegte Wafer- und Halbleiterverarbeitungsanforderungen. Die Einheit ist als einlagiges Einkammerverfahren ausgebildet, das eine einfache und effektive Resisthandhabung ermöglicht. Es verfügt über eine präzisionsgesteuerte X-Y-Bühne, kombiniert mit einem innovativen Resist-Monitor, um Lärm zu reduzieren und die Leistung zu verbessern. Die Maschine verfügt auch über ein Triple-Exposure-Behandlungsmodul, das eine verbesserte Kantendefinition und Kantengenauigkeit bietet, da es eine Reihe von Belichtungen mit einstellbaren Intervallzeiten anwendet. Das Tool verwendet fortschrittliche Prozesskontrolltechniken, um eine maximale Genauigkeit bei niedrigem Photolackverbrauch zu gewährleisten. Der proprietäre La Ra Revolution Prozessmonitor überwacht den Betrieb ebenfalls in Echtzeit und ermöglicht bei Bedarf schnelle Korrekturlösungen. Dadurch wird die Gleichmäßigkeit der Ergebnisse auch bei unterschiedlichen Prozessbedingungen gewährleistet. Das Asset verfügt auch über proprietäre PROM (photo resist optimization module) Software für den Einsatz in SEM Fenstern und OPC. Diese Software ermöglicht präzise Berechnungen optimaler Bedingungen für jeden Strukturtyp und ermöglicht so die Herstellung von hochauflösenden Teilen mit weniger Fehlern. Das Modell bietet zudem zusätzlichen Komfort mit flexibler Gerätekonfiguration und Installation auf der sauberen Strecke. Dies macht es einfach, es auf eine Reihe von Produktionsanforderungen anzupassen. Zusammenfassend ist TEL Clean Track ACT 8 ein komplettes Photoresist-System, das Anwendern hervorragende Overlay-Genauigkeit und hervorragende Wiederholbarkeit bietet und gleichzeitig eine einfache Installation und flexible Einheitenanpassung bietet. Die Maschine bietet fortschrittliche Prozesssteuerung, verbesserte Kantendefinition und softwareunterstützte Teileoptimierung für eine verbesserte Auflösung - und hält gleichzeitig den Photolackverbrauch niedrig.
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