Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9248792 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9248792
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Direction: Right to left (25) Slots (4) Uni-cassette loaders Main controller: Type 2 CSB PRB1 IFB Power box T&H Controller Chemical box Thermo controller Main system: Main frame with system controller Carrier station: Type: Normal uni-cassette (4) Cassette stages Pick-up cassette Uni-cassette system Coater unit (2-1, 2-2): (4) Dispense nozzles with temperature controlled lines for etch unit RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit Rinse system: 3 Liters (2) Tanks buffer tank system P.R Suck-back valve type: Air operation suck-back valve Programmable side rinse Drain: Direct drain Developer unit (2-3, 2-4): Steam nozzle for each unit (2) Stream nozzles for DI rinse and 2-points for back side rinse on each unit Developer system: 3 Liters (2) tanks buffer tank system Developer temperature control system Drain: Direct drain Interface type: ASML (8) Low temperature hot plates (LHP) (4) Chill plates (CPL) (4) Chilling hot plate process stations (CHP) TCP Module (2) TRS Modules WEE (wafer Edge Exposure) Module Wafer type: Notch Chemical cabinet TEL / TOKYO ELECTRON Temperature Control Unit (TCU) AC Power box Missing parts: 2-5, 2-17 ADH Module assemblies Circulator pump IRA T Axis motor driver WEE CCD Board WEE X Axis motor driver (2) 2-2 COT P.R Pumps (2) Developer buffer tanks 2-2 Spin chuck T&H Controller Main controller hard disk System power rating: AC 208V, 3-Phase 1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung für die Halbleiterverarbeitung. Es wurde entwickelt, um überlegene Leistung in anspruchsvollen Feinlinienprozessen zu bieten, insbesondere in fortgeschrittenen 14nm und unter Prozessknoten. TEL Clean Track ACT 8 ist in der Lage, mit Geschwindigkeiten von bis zu 8,4 m/s zu laufen, unter Beibehaltung einer gleichmäßigen Schichtabscheidung über die gesamte Oberfläche eines Substrats. Das fortschrittliche Dosiersystem verfügt über eine modifizierte Liquid-Gating-Technologie (LGT), die eine gleichmäßige Filmabscheidung über die gesamte Oberfläche des Wafers gewährleistet. Das LGT ermöglicht auch eine kleinere Deadband-Größe bei gleichzeitiger Verbesserung des Prozessdurchsatzes. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 verfügt auch über eine neuartige CozFlow Dispense Technologie, die eine spezielle Düse verwendet, um die Menge der Abgabe und die Strömungsrichtung des Photolacks genau zu steuern. Dies ermöglicht eine höhere Genauigkeit bei der Filmabscheidung. Die Leistung von Clean Track ACT 8 kann durch den Einsatz der optionalen Clean Track Precision Point Lasereinheit weiter verbessert werden. Diese proprietäre Lasermaschine bietet eine verbesserte Genauigkeit und Gleichmäßigkeit beim Aufbringen von Photolackfilmen auf Waferoberflächen mittels eines Festkörperlasers, der so eingestellt wird, dass die gewünschten Resistparameter erhalten werden. Die mit diesem Werkzeug erhaltenen Ergebnisse sind denen mit herkömmlichen optischen Lithographietechniken überlegen. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 verfügt über eine fortschrittliche automatisierte Reinigungsanlage, die einen kontrastreichen Ätzprozess ermöglicht. Dieses Aufräummodell dient dazu, die Rückstände jeder Chemikalie, die bei der Herstellung verwendet wird, zu entfernen und den Wafer für die Weiterverarbeitung vorzubereiten. TEL Clean Track ACT 8 verfügt auch über eine Reihe weiterer Funktionen, die es zu einer idealen Lösung für fortschrittliche Halbleiterprozesse machen. Dazu gehören: ein integrierter Echtzeit-Prozessmonitor, der den Fortschritt der Wafer-Herstellung, einen einfach zu bedienenden Touchscreen und die Fähigkeit, die Breite der Resist-Folie anzupassen, um die gewünschte Mustergröße aufzunehmen, anzeigt. Die fortschrittlichen Eigenschaften von TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 machen es zu einer idealen Lösung für komplexe und präzise Halbleiterherstellungsprozesse, insbesondere für fortgeschrittene 14nm und darunter liegende Prozessknoten. Durch die Verwendung von Clean Track ACT 8 sind Ingenieure und Techniker in der Lage, ihre Entwürfe genau und einheitlich zu gestalten und gleichzeitig konsistente Ergebnisse zu erzielen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor