Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9281143 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9281143
System, 8"
Main controller
Process type: DUV, Arf, Krf
Cassette block: 4-Stage
Process block: Dual block
Interface block: WEE
SHU
IRA
Spinner units:
Unit / Nozzle quantity / Pump / Nozzle type
2-1 COT / (3) / RRC
2-2 COT / (3) / RRC
3-1 DEV / (1) / H Nozzle
3-2 DEV / (1) / H Nozzle
3-3 DEV / (1) / H Nozzle
Bake units:
(8) CPL
(4) CHP
(12) LHP
(2) ADH
(4) TRS
(2) HHP
Chemical supply:
Thinner chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Dev solution supply: CCSS, (2) Buffer tanks
HMDS Chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Coat drain type: Direct drain type
Dev drain type: Direct drain type
Sub-module:
TEL AC Power box
Cup temperature / Humidity
TEL Chemical cabinet
(2) SMC Temperature Control Units (TCU)
Missing parts:
Temperature / Humidity
Oven cover
IRA Theta driver
IRA Z Driver
IRA Z Motor
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung von TEL (TOKYO ELECTRON Limited), einem bedeutenden Elektronikhersteller mit Sitz in Japan. Das System ist für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanlagen zur Herstellung von Waferprodukten mit Merkmalen kleiner als 10nm konzipiert. Diese Einheit ist eine „Single-Exposure“ Photoresist-Maschine, was bedeutet, dass sie den Wafer mit einer einzigen Dosis UV-Licht (UV) oder „Flash“ belichtet und somit ideal für die Verarbeitung kleinerer Geräte geeignet ist. TEL ACT 8 kombiniert eine hochstabile Lichtquelle, eine Stepper-Waferstufe und zugehörige Optik- und Optiksysteme, um den Wafer exakt mit UV-Licht zu belichten. Der Hostcomputer des Assets ermöglicht die Verwaltung des exponierten Musterprozesses. Mit TOKYO ELECTRON ACT 8 Modell können mehrere Schichten Photolack verwendet werden, um die gewünschten Schaltungsentwürfe auf dem Wafer zu erstellen. Der Fotolack dient als Ätzmaske zur Erzeugung der Endeinrichtung, wodurch bestimmte Teile des Wafers dem Ätzvorgang ausgesetzt werden. Das Gerät gibt den Fotolack automatisch aus und backt ihn, bevor er belichtet wird, was eine schnelle Verarbeitung ermöglicht. Nach Beendigung des gewünschten Musterprozesses ist der Wafer dann für den Ätzprozess bereit. Das System verwendet in der Regel ein einzelnes Lukenätzen, bei dem Ätzgas verwendet wird, um Moleküle in der zu ätzenden Schicht zu reaktivieren und ein Muster im darunter liegenden Silizium zu erzeugen. TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 Einheit ermöglicht auch für Multi-Luke Ätzen, wo mehrere Schichten von Photolack verwendet werden, um kleinere Merkmale und empfindlichere Designs zu produzieren. Die Maschine ist sehr zuverlässig und ihre Lichtquelle und Optik haben eine lange Lebensdauer. Zusätzlich sorgt das Tool mit Lasern und Software für eine hochpräzise und gleichmäßige Photolackbelichtung. Die parallelen Verarbeitungsfunktionen von ACT 8 asset ermöglichen es ihm, schnell mehrere Schichten komplizierter Photolackmuster zu verarbeiten, um hochwertige integrierte Schaltungen zu gewährleisten, die besser als je zuvor für möglich gehalten wurden. Alles in allem ist das TOKYO ELECTRON ACT 8 Photoresist-Modell eine hochgenaue Photoresist-Ausrüstung mit Einzelbelichtung, die für die schnelle Herstellung fortschrittlicher integrierter Schaltungen entwickelt wurde. Die zuverlässige Lichtquelle und Optik des Systems sowie die Ein- und Mehrluken-Ätzfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterherstellung.
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