Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9355794 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine Photolackausrüstung für fortschrittliche Photolithographieverfahren. Es ist ein erstklassiges System, das die neuesten Technologien nutzt, um saubere, genaue und präzise Photolithographie-Prozesse zu produzieren. Der ACT 8 kann jede Art von Photomaske mit Resistschichten von 50nm bis zu zwei Mikrometer dick verarbeiten und unterstützt Funktionsgrößen bis zu 0,25 Mikrometer. Das Gerät bietet eine Genauigkeit von bis zu 0,15 Mikrometern und ermöglicht die Herstellung von Feinlinienmustern mit sauberen Kanten. Die Maschine verwendet laserbasierte Projektionsbelichtungen, Ablationsprozesse und vielfältige Optionen für Decken und flüssige Beschichtungen. Der optische Weg nutzt hohe NA-Raumbeleuchtungslinsen, die patentierte Beleuchtungsmerkmale für Beleuchtungsflecken bis zu 0,15 Mikrometer verwenden. Das Laserwerkzeug kann eine Reihe von ultrahochintensiven Belichtungen oder Overdrive-Mehrfachbelichtungen mit unterschiedlichen Energieniveaus bereitstellen, um präzise Muster zu erzeugen. Die Anlage verwendet auch spezielle Parameter, um das Belichtungsprofil des Laserstrahls zu formen, wodurch die Photomaske belichtet und geätzt werden kann, ohne das Belichtungsmuster zu verschmieren. Das Photoresist-Modell TEL Clean Track ACT 8 verwendet auch ein Flüssigkeitsbeschichtungsverfahren mit kontrollierter Strömung, um die Gleichmäßigkeit der Photoresistschichten zu verbessern. Der flüssige Beschichtungsprozess umfasst Parameter zur Kontrolle der Viskosität und Zeit der Belichtung sowie Temperaturregelung für eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Genauigkeit. Das Gerät verwendet sogar Ionenimplantat, um die Haftung zu verbessern und die Musterabmessungen zu verbessern. TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 zeigt zentrale Computersteuerung und erweiterte Prozessüberwachungsfunktionen. Darüber hinaus verfügt das System über umfangreiche Parameterdatenbanken zur genauen Prozesssteuerung sowie Protokollierungsfunktionen für SPC. Das Gerät wurde mit einem modularen Prozesskonzept für einfache Wartung konzipiert und ist gegen Staub und chemische Verbindungen für die Maschinenintegrität geschützt. Insgesamt ist Clean Track ACT 8 Photoresist-Tool die perfekte Lösung für fortschrittliche Photolithographie-Prozesse, die Präzision und Genauigkeit erfordern.