Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9382447 zu verkaufen

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ID: 9382447
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
(2) Coaters / (2) Developers system, 8" 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine hochmoderne Photoresist-Ätzprozessausrüstung, die in der Halbleiterindustrie zur ultrafeinen Musterbildung mit hoher Treue eingesetzt wird. Sein Hauptmerkmal ist das fortschrittliche „Act In/Out“ -System, das die Waferoberfläche mit zwei verschiedenen Arten von Laserlicht innerhalb derselben Kammer verarbeitet und eine höhere Gleichmäßigkeit des Ätzens im Vergleich zu Einzelaufnahmeprozessen ermöglicht. Die TEL Clean Track ACT 8 Einheit verwendet ein zweistufiges Ätzverfahren. Zunächst verwendet ein pumpless light-restricted depyrogenation (LRD) -Verfahren fokussiertes Laserlicht, um abgeschiedene Verunreinigungen auf der Waferoberfläche zu verdampfen. Zweitens wird ein Durchlasslaser mit niedriger Leistung bei sehr niedrigen Temperaturen eingesetzt, um den Photolack in einem Durchgang abzuscheiden. Dieses zweistufige Verfahren erzeugt extrem dünne und gleichmäßige Photolackmuster und ein hoch kontrolliertes Kantenprofil ohne Nassverarbeitung. Die Maschine verfügt auch über eine hochgenaue Indizierung, was zu einer für den Ätzprozess kritischen Platzierung von Photoresist mit hoher Genauigkeit führt. Dies wird durch Präzisionsstufenbewegungssteuerung und integrierte Mustererkennungsalgorithmen ermöglicht. Das Werkzeug verwendet außerdem ein patentiertes „adaptives Beleuchtungsmuster“, das dafür sorgt, dass die Lichtintensität über den Wafer immer gleichmäßig ist, und die „Spiegel-und-Glas“ -Optik, um den Laser konsequent zu fokussieren und die Bildauflösung auch bei extremen Temperaturen zu erhalten. Darüber hinaus verfügt das Asset über einen optimierten Photolackätzprozess. Anstelle eines einzelnen Applikators verwendet dieser Prozess eine Dual-Simullaser-Workstation für maximale Gleichmäßigkeit und hochauflösende Bildgebung. Schließlich ist TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 mit einer ausgeklügelten Software ausgestattet, die alle Parameter und Prozesse für extrem präzises Ätzen und ausgezeichnete Erträge verfolgt. Zusammenfassend ist Clean Track ACT 8 ein Photolackätzprozessmodell der nächsten Generation, das entwickelt wurde, um eine extrem präzise Musterbildung und ultrafeine Kanten mit hoher Genauigkeit zu erreichen. Es verwendet ein zweistufiges Verfahren, das Verunreinigungen verdampft und Photolack in einem Durchgang aufbringt, sowie fortschrittliche Laserlichtmanipulationssysteme, ein einzigartiges „adaptives Beleuchtungsmuster“ und eine leistungsstarke Softwareplattform zur präzisen Steuerung des Ätzprozesses.
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