Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9383672 zu verkaufen
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ID: 9383672
Weinlese: 1995
Coater / Developer system
COT
TCT
(3) DEV
WEE
Missing parts:
WEE VAC Solenoids and light guide set
DEV Spin motor driver
AC Power box
AC Control box
Tweezers for WAF Guide fixing screws
IAZ Axis driver
IRAθ Axis driver
Cup temperature and humidity machine:
Wiring pipe
Drain pan
Leak sensor for drain pan
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 ist eine automatisierte Photolackausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Das System dient zur präzisen Ätzung von Mustern in Halbleitermaterialien. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, die zusammenarbeiten, um das Photolackmaterial zu manipulieren. Die erste Komponente ist ein Photoelectron Mask Aligner (PMA), der dafür verantwortlich ist, das gewünschte Muster genau auf das Wafermaterial zu legen. Das PMA verwendet dann UV-Licht, um das Muster auf den Photolack zu übertragen. Dieser Schritt wird „Exposition“ genannt. Die zweite Komponente ist eine chemische Bearbeitungsstation, die für die Entfernung der belichteten Teile des Photolacks verantwortlich ist. Üblicherweise erfolgt dieser Schritt durch Aufbringen einer alkalischen Lösung auf Wasserbasis auf den Photoresist. Dieser Prozess wird als „Entwickeln“ bezeichnet. Die dritte Komponente ist ein Schleudertrockner, mit dem das Material nach dem Entwicklungsschritt getrocknet wird. Dieser Schritt stellt sicher, dass der nächste Schritt, das Ätzen, korrekt durchgeführt werden kann. Die vierte Komponente ist ein Ätzer, mit dem das gewünschte Muster in das Material geätzt wird. Je nach geätztem Material kann dies durch Trockenätzen, Naßätzen oder Plasmaätzen erfolgen. Die fünfte Komponente ist eine Abhebestation, die für die Entfernung des verbleibenden Photolacks aus dem geätzten Muster verantwortlich ist. Dies geschieht üblicherweise mit einem chemischen Abhebemittel, das die chemischen Bindungen zwischen Photoresist und Material bricht. Die sechste Komponente ist eine AMI-Station (Alignment Mark Inspection), mit der die Ausrichtgenauigkeit des geätzten Musters überprüft wird. Dadurch wird sichergestellt, dass das geätzte Muster den Konstruktionsvorgaben entspricht. Die siebte Komponente ist eine Reinigungsstation, mit der restliche Photoresist, chemische Mittel oder Partikel aus dem Wafermaterial entfernt werden. Dies trägt dazu bei, dass der Halbleiter frei von Verunreinigungen ist. Schließlich ist die achte Komponente eine Transportstation, die dafür verantwortlich ist, das Wafermaterial zum nächsten Verfahrensschritt zu bewegen. TEL Clean Track ACT 8 ist ein wesentliches Bauelement im Halbleiterherstellungsprozess, da es die präzise und genaue Herstellung von Halbleitermaterialien ermöglicht. Durch die Kombination von PMA, chemischer Bearbeitungsstation, Schleudertrockner, Ätzer, Abhebestation, AMI, Reinigungsstation und Transportstation zu einer einzigen Maschine vereinfacht TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 den Prozess der Herstellung von Halbleitermaterialien.
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