Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro V-i #9397199 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro V-i ist eine handelsübliche Photolackausrüstung, die eine hohe Qualität der Photolackverarbeitung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Das System wurde entwickelt, um auch bei schwierigen Anwendungen hochvolumige, qualitativ hochwertige Photolacke herzustellen. Das Gerät verfügt über die neueste fortschrittliche Technologie für die Photolackverarbeitung und verfügt über eine hochpräzise optische Maschine, die Funktionen bis zu 30 nm auflösen kann. Dieses Werkzeug wurde entwickelt, um Qualität und Gleichmäßigkeit während des Photoresist-Hebevorgangs zu gewährleisten. Der Photoresist nutzt ein widerstandsfähiges Substrat mit hoher Temperatur, hoher Zuverlässigkeit und hoher Haftfähigkeit, um konsistente Ergebnisse auch bei hohen Temperaturen zu gewährleisten. Das Modell umfasst auch eine ausgeklügelte Sicherheitsausrüstung zur Überwachung der Kammerreinheit und der Prozessparameter. Das integrierte Pro V-i Sicherheitssystem nutzt einen umfassenden Sensorensatz zur Überwachung von Temperatur, Druck und anderen Betriebsparametern und kann die Photolackeinheit vor Beschädigungen schützen. TEL Clean Track Lithius Pro V-i Maschine kann in einer Vielzahl von verschiedenen Produktionsprozessen eingesetzt werden, einschließlich Photolithographie, Epoxidation und Spin-on-Deposition. Es ist mit einer Reihe konventioneller Photolackmaterialien kompatibel und kann verwendet werden, um je nach gewünschter Anwendung eine Vielzahl unterschiedlicher Ergebnisse zu erzielen. Das Werkzeug ist auch in der Lage, anspruchsvolle Produktionsprozesse leichter zu handhaben, indem es die neuesten Fortschritte in der Kontrolle und Präzision verwendet, wie zum Beispiel die direkte Übertragung von Daten, die während der resistiven Prozesse erzeugt werden. So können Anwender ihren Prozess optimieren und ermöglichen schnellere Produktions- und Reaktionszeiten. TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro V-i ist ein äußerst zuverlässiger und effektiver Photoresist und kann hohe Volumina und qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen. Dieses Modell ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für viele Produktionsprozesse und kann auf viele verschiedene Bereiche angewendet werden, um eine konsistente Produktion von Qualitäts-Photoresists zu gewährleisten.