Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #293802326 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro Photoresist ist ein High-End-System für Photolithographie-Prozesse. Photolithographie wird verwendet, um sehr kleine und komplizierte Muster mit extrem präziser Genauigkeit zu schaffen, und diese Einheit ermöglicht diesen Prozess mit einigen der höchsten Genauigkeit und Zuverlässigkeit auf dem Markt. Das Lithius Pro verwendet Photoresist-Technologie, um die Muster zu erfassen und zu verfolgen, die in der Maschine festgelegt sind. Der Photolack besteht aus einem lichtempfindlichen Material, das bei Belichtung eine Veränderung erfährt. Das Licht wird in das für die Photolithographie erforderliche Muster eingeformt und im Photolack erfasst. Während des Prozesses wird das Muster auf einem Substrat belichtet und am Ende des Prozesses kann der Photoresist entfernt werden, um das Muster aufzudecken. Die wichtigsten Merkmale des Lithius Pro sind seine hochpräzisen optischen Komponenten, die es ermöglichen, die genaue Positionierung des Musters zu erfassen, wenn es auf dem Substrat freigelegt wird. Die verwendeten hochgenauen Sensoren übersetzen das Muster mit +/- 0,15 Mikron Genauigkeit in digitale Koordinaten. Darüber hinaus verwendet die hochauflösende Bildaufnahme hochempfindliche CCD-Kameras und ihre Lichtquelle bietet eine helle und gleichmäßige Beleuchtung und bietet eine konsistente und genaue Belichtungsgenauigkeit. Natürlich ist der Hauptvorteil dieses Tools seine fortschrittliche Clean Track Asset. Das Clean Track-Modell soll verhindern, dass sich Partikel auf dem Photolack bilden und die Muster verunreinigen, und dies wird durch eine Vakuumumgebung erreicht, die die Luft einzieht, Partikel einfängt und den photolithographischen Prozess schützt. Insgesamt bietet TEL Clean Track Lithius Pro Photoresist-Geräte Anwendern ein genaues und zuverlässiges Photolithographie-Verfahren mit hochpräzisen optischen Komponenten, präzisen Sensoren und einem sauberen Spursystem zur Partikelvermeidung. Das Gerät wurde entwickelt, um einen hocheffizienten und genauen photolithographischen Prozess zu liefern, der konsistente Ergebnisse erzielen kann.