Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9218786
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Coater / Developer system, 12"
Multi block
Track config 1:
(3) Coat cups
(3) Barc cups
(3) Top coat cups
(6) Developer cups
(3) CADH
Track config 2:
Resist reduction: SRRC
Dev nozzle1: GP
Dev nozzle2: LD
Resist pump: CRD 3ml
Bevel rinse: Ver 2
Oven config:
PEB: (4) CPHP
BCT: (5) CGHA
COT: (4) CGHP
ITC: (4) CGHA
Post bake: (4) CLHA
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73, LA95
FIRM: SPC-116A
Block diagrams
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro ist ein Stück fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung entwickelt, um hoch kontrollierte und präzise Photolithographie-Prozesse über eine breite Palette von Substraten durchführen. Die Photolithographie, auch Photomasken-Technologie genannt, ist das Verfahren zur Übertragung von Mustern zwischen zwei getrennten Materialien unter Verwendung von Licht. Der Lithius Pro ist aufgrund seiner hohen Licht- und Chemikalienempfindlichkeit in der Lage, eine überlegene Präzision für eine Vielzahl von Photomaskierungsanwendungen zu bieten. Es ist ein System, das sowohl SynchroScan- als auch AsyncScan-Photomasken-Technologien verwendet, die simultane Scan- und Verarbeitungsfunktionen für Hochgeschwindigkeits-Maskenstrukturen bieten. Der Lithius Pro ist für die Verwendung mit einer Reihe von Photolackmaterialien konzipiert, einschließlich positiver, negativer und Spin-Beschichtung. Photoresist ist ein Film aus einem lichtempfindlichen Material, der auf ein Substrat, wie ein Siliziumwafersubstrat, aufgebracht wird, um ein Muster dieses Materials zu bilden. Mit einer Kombination aus AsyncScan- und SynchroScan-Photomasken bietet das Lithius Pro eine optimale Musterwartung und eine hohe Seitenverhältnisgenauigkeit. Das Gerät verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die für Photomasken- und Photoresist-Anwendungen entwickelt wurden, wie eine dynamische Scangeschwindigkeitsregelungsmaschine, eine automatische Toneinstellung und ein genaues Fokuserkennungswerkzeug. Das Lithius Pro bietet einfache und präzise Setup-Verfahren mit integrierten Programmen wie einem Kalibrierassistenten, der die Ausrichtung und Kalibrierung für maximale Genauigkeit und Reproduzierbarkeit vereinfacht. Es bietet auch eine Reihe von Standard- und speziellen Reinigungsprotokollen, wie einen sauberen Reinigungsmodus für die Vakuumspannung und einen variablen Reinigungsmodus für die Entfernung von Fett, Staub und anderen Kontaminationen. Die eingebauten Inspektionsmöglichkeiten ermöglichen wiederholbare und einheitliche Inspektionsergebnisse. Diese Eigenschaften machen den Lithius Pro zu einem leistungsstarken Werkzeug für präzise Photomasken und Photoresist-Anwendungen. Es ist in der Lage, komplexe Strukturierungen über eine breite Palette von Substraten mit wiederholbaren Ergebnissen durchzuführen. Die Anlage wurde für eine einfache Installation entwickelt und bietet eine intuitive Steuerung sowie eine breite Palette von Produktivitäts- und Sicherheitsfunktionen. Dies ist die ideale Wahl für diejenigen, die eine hohe Genauigkeit und Effizienz ihrer Photolithographiesysteme benötigen.
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