Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #293595689 zu verkaufen
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ID: 293595689
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Coater / Developer system, 12"
In-line with CANON ES6
(4) Loaders
TEL Photoresist processing system
FOUP Carrier station: 4 Side loading
(2) Process station blocks
Wafer edge with inline thickness measurement system
CAR Capable
DEV Solution supply system
FIRM Supply system
NH3 Monitor ports specification
CANON Interface station
Online communication (GJG)
S2-0302 Safety compliance
(3) P.Resist coater units
(2) BARC Resist coater units
(5) Developer units
LD Nozzle
(3) Adhesion process units
(6) Chill Plates (CPL)
(2) Water Controlled Chilling Plates (WCPL)
(5) Chilling Low Temperature Hot Plates (CLHP)
(10) Chilling High Precision Hot Plates (CPHP)
(2) External chemical cabinets
T and H controller cup
AC Power box
HPT Pump:
(4) Nozzles per cup
(6) Nozzles per cup
Direct drain:
COT
BCT
DEV
Solvent supply system:
COT
BCT Unit
Power supply: 208 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Verbesserung der Produktion integrierter Schaltungen in der Halbleiterherstellung. Das System besteht aus zwei Komponenten, die im Tandem eine sauberere und präzisere Entwicklung von Mikroschaltungen ermöglichen. Das Gerät besteht aus einem Lithius-Reinigungsmittel und einer Clean Track-Kammer, beide Komponenten von TEL. Das Lithius-Reinigungsmittel streift mit einem Lösungsmittel Verunreinigungen und Rückstände auf der Waferoberfläche ab. Dies ermöglicht die saubere und genaue Verarbeitung von Photoresists auf den Wafer. Beim Auftragen des Reinigungsmittels verbindet es sich mit den Verunreinigungen und entfernt diese in einer einzigen Applikation. Obwohl der Lithius in der Lage ist, eine Vielzahl von Rückständen zu reinigen, eignet er sich für die meisten Photoresistsysteme, einschließlich der von TOKYO ELECTRON entwickelten. Die Clean Track-Kammer ist eine abgedichtete Kammer mit einem einzigartigen Waferhalter. Der Wafer wird im abgedichteten Raum auf den Halter gelegt und zur Einführung des Lithius-Reinigungsmittels verwendet. Der Wafer wird dann ultraviolettem Licht ausgesetzt, das den Aufräumvorgang der Lithographie-Photoresistmaschine katalysiert. Dies geschieht in einem geschlossenen Raum, wodurch Umweltverschmutzungen wie Staub und Feuchtigkeit verhindert werden, die den Entwicklungsprozess behindern könnten. Die kombinierte Anwendung des Lithius-Reinigungsmittels und der Clean Track-Kammer ermöglicht das sichere und effiziente Einbringen detaillierter Strukturen in Wafer. Dies ermöglicht eine höhere Integration und Genauigkeit bei der Herstellung integrierter Schaltungen und erhöht Ausbeute und Durchsatz. Abschließend ist TEL Clean Track Lithius ein effektives und hocheffizientes Photolackwerkzeug, ideal für die Herstellung integrierter Schaltungen. Die von Natur aus saubere Umgebung der Clean Track-Kammer sowie das schnelle Reinigungslösungsmittel ermöglichen eine detaillierte und genaue Strukturverarbeitung, steigende Ausbeute und Durchsatzrate für eine Vielzahl von Anwendungen.
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