Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9195123 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9195123
Wafergröße: 12"
Coater / Developer systems, 12" Multi block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist ein Photoresist-Gerät zur Verwaltung der Belichtung verschiedener Bilder auf einem Substrat. Dieses System dient zur Feinmusterung und Lithographieanwendung in der Mikroelektronik, Flachbildschirm, optoelektronischen Bauelementen und Halbleiterherstellung. TEL Clean Track Lithius-Einheit besteht aus drei Teilen: der Photolack-Ausgabeeinheit, dem Bildbelichtungsabschnitt und dem Trockenfilmübertragungsabschnitt. In der in die Maschine integrierten Photoresist-Dispense-Einheit werden zunächst Photoresists auf das Substrat gespendet. Diese Einheit sorgt aufgrund ihres gut kontrollierten Drucks und ihrer Geschwindigkeit für eine gleichmäßige Ausgabe von Photoresists, um einen guten Ausgangspunkt für nachfolgende Operationen zu gewährleisten. Der zweite Abschnitt des Werkzeugs ist der Bildbelichtungsabschnitt, der dann den Vorgang der Belichtung des gewünschten Bildes auf die Fotoresists durchführt. Dieser Abschnitt ist mit einer UV-LED-Lichtquelle ausgestattet, die einen sehr stabilen UV-Ausgang mit minimalem Eichbedarf bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass alle Teile des Bildes, die belichtet werden müssen, einer gleichmäßigen UV-Intensität ausgesetzt werden, was zu einem präzisen und wiederholbaren Strukturierungsprozess führt. Schließlich ist der dritte Abschnitt des Vermögenswertes der Trockenfilmtransfer. Dieser Abschnitt verwendet präzise Trockenfilmübertragungsroboter, um extrem dünne Schichten aus lichtempfindlichem Film zu erzeugen, die auf das Substrat übertragen werden können. Die Roboter in diesem Abschnitt sind in der Lage, den Trockenfilm auf dem Substrat genau zu positionieren und gleichzeitig die Gefahr von Verschmutzungen oder Schmierereien zu minimieren. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ein effektives Photolackmodell für präzise Muster- und Lithographieanwendungen. Es ist in der Lage, eine gleichmäßige Abgabe von Photoresists, eine gleichmäßige Bildbelichtung und eine genaue und wiederholbare Trockenfilmübertragung bereitzustellen. Diese Eigenschaften machen es gut geeignet für den Einsatz in der Mikroelektronik, Flachbildschirm, optoelektronische Bauelemente und Halbleiter-Herstellungsprozess.
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