Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9217452 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius ist eine komplett automatisierte Photolackausrüstung, die präzise, saubere und konsistente Ergebnisse in allen Lithographieanwendungen liefert. Mit Hilfe fortschrittlicher Bildgebungs- und Verarbeitungssoftware liefert dieses System konsistente Ergebnisse für verschiedene Arten von Photolackmaterialien wie Photoresist, Acryl, PMMA oder Polyimid. Die Einheit verwendet eine Kombination aus fortgeschrittenen optischen Komponenten wie Linsen, diffraktiven optischen Elementen, Spiegeln und Wellenlängenfiltern, um einen gleichmäßigen Strahl zu erzeugen, der auf das Photolackmaterial aufgebracht wird. Dieser Auftrag bearbeitet den Strahl so, dass er das Substrat vollständig einkapselt und in nur einem Bruchteil einer Sekunde eine gleichmäßige Deckschicht erzeugt. Dadurch wird sichergestellt, dass das belichtete Material genaue und gleichmäßige Abdeckung für maximale Qualität und Leistung hat. Das fortschrittliche Luftlagerwerkzeug der Maschine bietet präzise und wiederholbare Bewegungen mit einer maximalen Abtastgeschwindigkeit von 0,5 mm/s. Es bietet auch Echtzeit-Überwachung der Substrattemperatur, um konsistente, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Dadurch wird der Zeitaufwand für die konsequente Bearbeitung des gewünschten Substrats weiter reduziert. Darüber hinaus ist diese Anlage auch mit automatischen Reinigungsfunktionen ausgestattet. Die Düsenreinigungs- und Düsenleckerkennungssysteme des Modells sorgen dafür, dass die Luftzufuhrsysteme und die Düsen ein konsistentes Spray liefern, wodurch etwaige Luft- oder Materialabgabefehler vermieden werden. Insgesamt ist TEL Clean Track Lithius eine fortschrittliche Präzisions-Photolackausrüstung, die konsistente, wiederholbare Ergebnisse in allen Lithographieanwendungen liefert. Die Kombination aus fortschrittlichen optischen Komponenten, Abtastgeschwindigkeit und Temperaturregelung bietet eine Komplettlösung für jede lithografische Aufgabe. Darüber hinaus gewährleisten die automatisierten Reinigungseigenschaften eine konsistente, gleichmäßige Strahlabdeckung und zuverlässige Substrattemperaturen.